skip to main content
Idioma:
Primo Advanced Search
Primo Advanced Search Query Term
Primo Advanced Search Query Term
Primo Advanced Search Query Term
Primo Advanced Search prefilters
Busca Simples
Resultados 1 2 3 4 5 next page
Mostrar Somente
Refinado por: Nome da Publicação: Microelectronic Engineering remover
Result Number Material Type Add to My Shelf Action Record Details and Options
1
Reactive sputter etching of Al in BCl 3
Reactive sputter etching of Al in BCl 3
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Reactive sputter etching of Al in BCl 3

Lehmann, H.W. ; Widmer, R.

Microelectronic engineering, 1983, Vol.1 (1), p.3-27 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

Sem texto completo

Citações Citado por
2
Oxygen ion-beam etch resistance of metal-free and organosilicon resist materials
Oxygen ion-beam etch resistance of metal-free and organosilicon resist materials
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Oxygen ion-beam etch resistance of metal-free and organosilicon resist materials

Gokan, Hiroshi ; Ohnishi, Yoshitake ; Saigo, Kazuhide

Microelectronic engineering, 1983, Vol.1 (4), p.251-262 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

Sem texto completo

Citações Citado por
3
Application of polysiloxane resists to multilayer resists systems for high-resolution microlithography
Application of polysiloxane resists to multilayer resists systems for high-resolution microlithography
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Application of polysiloxane resists to multilayer resists systems for high-resolution microlithography

Rosilio, Charles ; Rosilio, André ; Buiguez, François

Microelectronic engineering, 1983, Vol.1 (3), p.197-208 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

Sem texto completo

Citações Citado por
4
Reactive sputter etching of Al in BCl3
Reactive sputter etching of Al in BCl3
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Reactive sputter etching of Al in BCl3

Lehmann, H.W. ; Widmer, R.

Microelectronic engineering, 1983-09, Vol.1 (1), p.3-27 [Periódico revisado por pares]

Texto completo disponível

Citações Citado por
5
Ion-beam etched multi-level resist technique for electroplating of submicron gold absorber patterns
Ion-beam etched multi-level resist technique for electroplating of submicron gold absorber patterns
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Ion-beam etched multi-level resist technique for electroplating of submicron gold absorber patterns

Schneider-Gmelch, B. ; Tischer, P.

Microelectronic engineering, 1984, Vol.2 (4), p.227-243 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

Texto completo disponível

Citações Citado por
6
Redeposition in ion milling
Redeposition in ion milling
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Redeposition in ion milling

Müller, K.P. ; Pelka, J.

Microelectronic engineering, 1987, Vol.7 (1), p.91-101 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

Texto completo disponível

Citações Citado por
7
Magnetically enhanced reactive ion etching (MERIE) with different field configurations
Magnetically enhanced reactive ion etching (MERIE) with different field configurations
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Magnetically enhanced reactive ion etching (MERIE) with different field configurations

Müller, K.P. ; Heinrich, F. ; Mader, H.

Microelectronic engineering, 1989, Vol.10 (1), p.55-67 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

Texto completo disponível

Citações Citado por
8
Improved shallow trench isolation for sub-halfmicron CMOS
Improved shallow trench isolation for sub-halfmicron CMOS
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Improved shallow trench isolation for sub-halfmicron CMOS

Cabanal, J.P. ; Haond, M.

ESSDERC '91: 21st European Solid State Device Research Conference, 1991, Vol.15 (1), p.651-654 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

Texto completo disponível

Citações Citado por
9
Design and characteristics of a GaAs BMFET
Design and characteristics of a GaAs BMFET
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Design and characteristics of a GaAs BMFET

Schweeger, G. ; Della Corte, F.G. ; Hartnagel, H.L.

ESSDERC '91: 21st European Solid State Device Research Conference, 1991, Vol.15 (1), p.313-316 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

Texto completo disponível

Citações Citado por
10
High-performance VLSI photomask with a molybdenum silicide film
High-performance VLSI photomask with a molybdenum silicide film
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

High-performance VLSI photomask with a molybdenum silicide film

Shigetomi, A. ; Matsuda, S. ; Watakabe, Y. ; Kato, T.

Microelectronic engineering, 1991, Vol.14 (2), p.73-86 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

Texto completo disponível

Citações Citado por
Resultados 1 2 3 4 5 next page

Personalize Seus Resultados

  1. Editar

Refine Search Results

Expandir Meus Resultados

  1.   

Mostrar Somente

  1. Recursos Online (797)

Data de Publicação 

De até
Refinar
  1. Antes de1993  (46)
  2. 1993Até1999  (23)
  3. 2000Até2006  (184)
  4. 2007Até2014  (360)
  5. Após 2014  (188)
  6. Mais opções open sub menu

  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

Buscando em bases de dados remotas. Favor aguardar.