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Distribuição das tensões promovidas por implantes cone Morse inseridos em diferentes níveis ósseos: análise fotoelástica e método dos elementos finitos

Sizo, Sergio Rodrigues

Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP; Universidade de São Paulo; Faculdade de Odontologia 2015-04-10

Acesso online. A biblioteca também possui exemplares impressos.

  • Título:
    Distribuição das tensões promovidas por implantes cone Morse inseridos em diferentes níveis ósseos: análise fotoelástica e método dos elementos finitos
  • Autor: Sizo, Sergio Rodrigues
  • Orientador: Mori, Matsuyoshi
  • Assuntos: Análise Fotoelástica; Cargas Compressivas; Implante Dentário; Método Dos Elementos Finitos; Compressive Loads; Dental Implant; Finite Element Analysis; Photoelastic Analysis
  • Notas: Tese (Doutorado)
  • Descrição: Ainda não existe um consenso sobre o nível em que os implantes cone Morse devem ser inseridos em relação à crista ósse alveolar. A literatura mostra diversas pesquisas em animais e laboratoriais com implantes posicionados acima, abaixo ou ao nível da crista. Contudo, diferentes metodologias e técnicas dificultam a definição do melhor nível de localização. O presente trabalho optou por analisar qualitativa e quantitativamente por meio da fotoelasticidade e do método dos elementos finitos (MEF), implantes em diferentes níveis de inserção sob carga compressiva estática, visando elucidar esse tema. Quatro níveis foram simulados: 1 mm acima da crista (AC); ao nível da crista (AN); 1 mm abaixo da crista sem aposição óssea sobre a plataforma (AB-S); e 1 mm abaixo da crista com aposição óssea sobre a plataforma (AB-C). Os resultados fotoelásticos demonstraram maiores valores de ordem de franja na região apical e menores na região cervical, em todos os modelos, independente do tipo de carga. No MEF verificou-se que o aprofundamento do implante da posição AC para AB-S reduziu progressivamente as tensões de von Mises na região cortical independente do tipo de carga, respectivamente, 0,5595 - 0,3842 Mpa nas cargas cêntricas e 1,5261 - 0,9787 MPa nas excêntricas. Concluiuse que houve redução na concentração de tensões posicionado-se o implante abaixo do crista óssea e uma tendência de aumento de tensão nas amostras AB-C, provavelmente devido à tração do osso existente sobre a plataforma do implante.
  • DOI: 10.11606/T.23.2015.tde-17062015-130723
  • Editor: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP; Universidade de São Paulo; Faculdade de Odontologia
  • Data de criação/publicação: 2015-04-10
  • Formato: Adobe PDF
  • Idioma: Português
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