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Estruturas de copolímeros sub-micrometricas utilizadas em processo de litografia

R. H. Longaresi A. J. F Carvalho; Marcelo de Assumpção Pereira da Silva; Roberto Mendonça Faria; Simpósio em Ciência e Engenharia de Materiais - SICEM (11. 2008 São Carlos)

Livro de Resumos São Carlos : IFSC - IQSC - EESC / USP, 2008

São Carlos IFSC - IQSC - EESC / USP 2008

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PROD015139 Item disponível 89015139 DOCUMENTO IMPRESSO
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