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A new low-noise bipolar C-band transistor
A new low-noise bipolar C-band transistor
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

A new low-noise bipolar C-band transistor

Ch'en, D.R.

1972 International Electron Devices Meeting, 1972, p.36-36

IRE

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Citações Citado por
2
Beam Techniques for the Fabrication of Integrated Optics Circuits
Beam Techniques for the Fabrication of Integrated Optics Circuits
Material Type:
Report 		Adicionar ao Meu Espaço

Beam Techniques for the Fabrication of Integrated Optics Circuits

Wolf,E. D ; Garvin,H. L ; Wilson,R. G

1973

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Citações Citado por
3
Techniques for Making Gap-Coupled Acoustoelectric Devices
Techniques for Making Gap-Coupled Acoustoelectric Devices
Material Type:
Report 		Adicionar ao Meu Espaço

Techniques for Making Gap-Coupled Acoustoelectric Devices

Smith,Henry I

1975

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Citações Citado por
4
Design and Fabrication of Schottky-Barrier Diodes for Submillimeter Wave Applications
Design and Fabrication of Schottky-Barrier Diodes for Submillimeter Wave Applications
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Design and Fabrication of Schottky-Barrier Diodes for Submillimeter Wave Applications

Wrixon, G. T.

1976 International Conference on Submillimeter Waves and Their Applications, 1976, p.250-250

IEEE

Texto completo disponível

Citações Citado por
5
Properties of superconducting weak links prepared by ion implantation and by electron beam lithography
Properties of superconducting weak links prepared by ion implantation and by electron beam lithography
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Properties of superconducting weak links prepared by ion implantation and by electron beam lithography

Harris, E. ; Laibowitz, R.

IEEE transactions on magnetics, 1977-01, Vol.13 (1), p.724-730

IEEE

Texto completo disponível

Citações Citado por
6
Preparation of Variable Thickness Microbridges Using Electron Beam Lithography and Ion Etching
Preparation of Variable Thickness Microbridges Using Electron Beam Lithography and Ion Etching
Material Type:
Report 		Adicionar ao Meu Espaço

Preparation of Variable Thickness Microbridges Using Electron Beam Lithography and Ion Etching

Sandell,R D ; Dolan,G J ; Lukens,J E

1977

Texto completo disponível

Citações Citado por
7
Fine Line Lithography
Fine Line Lithography
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

Fine Line Lithography

Newman, R

Amsterdam: Elsevier 1980

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8
エレクトロニクスにおける微細加工の限界
エレクトロニクスにおける微細加工の限界
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

エレクトロニクスにおける微細加工の限界

難波, 進

精密機械, 1980/06/05, Vol.46(6), pp.667-673

公益社団法人 精密工学会

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9
Resolution, overlay, and field-size for lithography systems
Resolution, overlay, and field-size for lithography systems
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Resolution, overlay, and field-size for lithography systems

Broers, A.N.

1980 International Electron Devices Meeting, 1980, p.2-6

IRE

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10
Direct-Write Ion Lithography
Direct-Write Ion Lithography
Material Type:
Report 		Adicionar ao Meu Espaço

Direct-Write Ion Lithography

Vahrenkamp, R P

1980

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