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Refinado por: assunto: X-Ray Diffraction remover assunto: Technology remover
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Synchrotron x-ray diffraction and transmission electron microscopy studies of interfacial reaction paths and kinetics during annealing of fully-002-textured Al/TiN bilayers

Chun, J.-S. ; Carlsson, J. R. A. ; Desjardins, P. ; Bergstrom, D. B. ; Petrov, I. ; Greene, J. E. ; Lavoie, C. ; Cabral, C. ; Hultman, L.

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, January 2001, Vol.19(1), pp.182-191 [Periódico revisado por pares]

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2
Epitaxial growth of tungsten carbide films using C60 as carbon precursor
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Epitaxial growth of tungsten carbide films using C60 as carbon precursor

Palmquist, J.-P. ; Czigány, Zs. ; Hultman, L. ; Jansson, U.

Journal of Crystal Growth, 11/2003, Vol.259(1-2), pp.12-17 [Periódico revisado por pares]

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3
Comment on ?Pulsed Laser Deposition and Properties of M n+1AX x Phase Formulated Ti3SiC2 Thin Films?
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Comment on ?Pulsed Laser Deposition and Properties of M n+1AX x Phase Formulated Ti3SiC2 Thin Films?

Eklund, P. ; Palmquist, J.-P. ; Wilhelmsson, O. ; Jansson, U. ; Emmerlich, J. ; H�Gberg, H. ; Hultman, L.

Tribology Letters, 11/2004, Vol.17(4), pp.977-978 [Periódico revisado por pares]

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Magnetron sputter epitaxy of wurtzite Al 1 − x In x N ( 0.1 < x < 0.9 ) by dual reactive dc magnetron sputter deposition

Seppänen, T. ; Persson, P. O. Å. ; Hultman, L. ; Birch, J. ; Radnóczi, G. Z.

Journal of Applied Physics, 15 April 2005, Vol.97(8) [Periódico revisado por pares]

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Radio frequency dual magnetron sputtering deposition and characterization of nanocomposite Al 2 O 3 – Zr O 2 thin films

Trinh, D. H. ; Högberg, H. ; Andersson, J. M. ; Collin, M. ; Reineck, I. ; Helmersson, U. ; Hultman, L.

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, March 2006, Vol.24(2), pp.309-316 [Periódico revisado por pares]

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Deviations from Vegard's rule in Al{sub 1-x}In{sub x}N (0001) alloy thin films grown by magnetron sputter epitaxy

Seppaenen, T ; Hultman, L ; Birch, J ; Beckers, M ; Kreissig, U ; Institute for Ion Beam Physics and Materials Science

Journal of Applied Physics, 15 February 2007, Vol.101(4) [Periódico revisado por pares]

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Microstructure and electrical properties of Ti-Si-C-Ag nanocomposite thin films.(Author abstract)

Eklund, P. ; Joelsson, T. ; Ljungcrantz, H. ; Wilhelmsson, O. ; Czigany, Zs. ; Hogberg, H. ; Hultman, L.

Surface & Coatings Technology, April 2, 2007, Vol.201(14), p.6465(5) [Periódico revisado por pares]

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Single-crystal growth of NaCl-structure Al&#8211;Cr&#8211;N thin films on MgO(001) by magnetron sputter epitaxy
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Single-crystal growth of NaCl-structure Al–Cr–N thin films on MgO(001) by magnetron sputter epitaxy

Willmann, H. ; Beckers, M. ; Giuliani, F. ; Birch, J. ; Mayrhofer, P.H. ; Mitterer, C. ; Hultman, L.

Scripta Materialia, 12/2007, Vol.57(12), pp.1089-1092 [Periódico revisado por pares]

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Direct current magnetron sputtering deposition of nanocomposite alumina -- zirconia thin films.(Report)

Trinh, D. H. ; Kubart, T. ; Nyberg, T. ; Ottosson, M. ; Hultman, L. ; Hogberg, H.

Thin Solid Films, Oct 1, 2008, Vol.516(23), p.8352(7) [Periódico revisado por pares]

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10
Sputter deposition from a Ti2AlC target: Process characterization and conditions for growth of Ti2AlC
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Sputter deposition from a Ti2AlC target: Process characterization and conditions for growth of Ti2AlC

Frodelius, J. ; Eklund, P. ; Beckers, M. ; Persson, P.O.Å. ; Högberg, H. ; Hultman, L.

Thin Solid Films, 1/2010, Vol.518(6), pp.1621-1626 [Periódico revisado por pares]

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