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Tese de Doutorado
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Desenvolvimento de um espectrômetro por absorção diferencial para medidas de poluentes na atmosfera

Souza, Paulo Cesar De

Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP; Universidade de São Paulo; Instituto de Física de São Carlos 2007-09-05

Acesso online. A biblioteca também possui exemplares impressos.

2
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Artigo
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Synthesis of wurtzite ZnS nanoparticles using the microwave assisted solvothermal method

La Porta, Felipe A.; Ferrer, Mateus M.; Santana, Yuri V. B.; Raubach, Cristiane W.; Longo, Valéria M.; Sambrano, Julio R.; Longo, Elson; Andrés, Juan; Siu Li, Maximo; Varela, José A. Universidade De São Paulo

Journal of Alloys and Compounds

Elsevier BV; Amsterdam 2013-04

Acesso online

3
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Artigo
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Understanding of gas phase deposition of reactive magnetron sputtered TiO2 thin films and its correlation with bactericidal efficiency

Panda, A.B ; Mahapatra, S.K ; Barhai, P.K ; Das, A.K ; Banerjee, I

Applied Surface Science, 01 October 2012, Vol.258(24), pp.9824-9831 [Periódico revisado por pares]

Texto completo disponível

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4
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Artigo
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Plasma diagnostics in pulsed laser deposition of GaLaS chalcogenides

Pompilian, O.G ; Gurlui, S ; Nemec, P ; Nazabal, V ; Ziskind, M ; Focsa, C

Applied Surface Science, 01 August 2013, Vol.278, pp.352-356 [Periódico revisado por pares]

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5
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Artigo
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Study by optical emission spectroscopy of a physical vapour deposition process for the synthesis of complex AlCuFe(B) coatings

Duguet, T ; Fournée, V ; Dubois, J.M ; Belmonte, T

Surface & Coatings Technology, 2010, Vol.205(1), pp.9-14 [Periódico revisado por pares]

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6
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Artigo
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Cleaning level of the target before deposition by reactive direct current magnetron sputtering

Hernandez Utrera, O ; Abundiz-Cisneros, N ; Sanginés, R ; Diliegros-Godines, C.J ; Machorro, R

Thin solid films, 31 January 2018, Vol.646, pp.98-104 [Periódico revisado por pares]

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7
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Artigo
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Plasma diagnostics of an Ar/NH3 direct-current reactive magnetron sputtering discharge for SiNx deposition

Henry, F ; Duluard, C.Y ; Batan, A ; Reniers, F

Thin Solid Films, 01 August 2012, Vol.520(20), pp.6386-6392 [Periódico revisado por pares]

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Artigo
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Optical emission spectroscopy as a process control tool during plasma enhanced chemical vapor deposition of microcrystalline silicon thin films

Du, C.C ; Wei, T.C ; Chang, C.H ; Lee, S.L ; Liang, M.W ; Huang, J.R ; Wu, C.H ; Shirakura, A ; Morisawa, R ; Suzuki, T

Thin Solid Films, 30 March 2012, Vol.520(11), pp.3999-4002 [Periódico revisado por pares]

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9
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Artigo
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Laser ablation and growth of Si and Ge

Yap, Seong Shan ; Siew, Wee Ong ; Nee, Chen Hon ; Reenaas, Turid Worren ; Tou, Teck Yong

Thin Solid Films, 01 February 2012, Vol.520(8), pp.3266-3270 [Periódico revisado por pares]

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Artigo
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Modeling the effect of power on the growth properties of microcrystalline silicon films in the high-pressure depletion regime

Li, Rui ; Chen, Xiping ; Chen, Yongsheng ; Hao, Xiuli ; Lu, Jingxiao ; Yang, Shi-E

Thin Solid Films, 01 July 2014, Vol.562, pp.140-143 [Periódico revisado por pares]

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