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Magnetron sputter epitaxy of wurtzite Al 1 − x In x N ( 0.1 < x < 0.9 ) by dual reactive dc magnetron sputter deposition

Seppänen, T. ; Persson, P. O. Å. ; Hultman, L. ; Birch, J. ; Radnóczi, G. Z.

Journal of Applied Physics, 15 April 2005, Vol.97(8) [Periódico revisado por pares]

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Epitaxial V 0.6 W 0.4 N/MgO(001): Evidence for ordering on the cation sublattice

Kindlund, H. ; Lu, J. ; Jensen, J. ; Petrov, I. ; Greene, J. E. ; Hultman, L.

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, July 2013, Vol.31(4) [Periódico revisado por pares]

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3
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Artigo
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Radio frequency dual magnetron sputtering deposition and characterization of nanocomposite Al 2 O 3 – Zr O 2 thin films

Trinh, D. H. ; Högberg, H. ; Andersson, J. M. ; Collin, M. ; Reineck, I. ; Helmersson, U. ; Hultman, L.

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, March 2006, Vol.24(2), pp.309-316 [Periódico revisado por pares]

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