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(0 0 1) Textured CoPt/Ag films and nanocomposites: the effect of Ag underlayers
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(0 0 1) Textured CoPt/Ag films and nanocomposites: the effect of Ag underlayers

Manios, E. ; Karanasos, V. ; Niarchos, D. ; Panagiotopoulos, I.

Journal of magnetism and magnetic materials, 2004-05, Vol.272, p.2169-2170 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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2
0. 1--10-keV x-ray-induced electron emissions from solids: Models and secondary electron measurements
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0. 1--10-keV x-ray-induced electron emissions from solids: Models and secondary electron measurements

Henke, B.L. ; Smith, J.A. ; Attwood, D.T.

J. Appl. Phys.; (United States), 1977-05, Vol.48:5

United States

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3
0. 1-/mu/m gate-length superconducting FET
0. 1-/mu/m gate-length superconducting FET
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0. 1-/mu/m gate-length superconducting FET

Nishino, T. ; Hatano, M. ; Hasegawa, H. ; Murai, F. ; Kure, T. ; Hiraiwa, A. ; Yagi, K. ; Kawabe, U.

IEEE Electron Device Lett.; (United States), 1989-02, Vol.10:2

United States

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4
[001]-oriented crystalline Potassium-Sodium Niobate thin film fabricated at low temperature for use in piezoelectric energy harvester
[001]-oriented crystalline Potassium-Sodium Niobate thin film fabricated at low temperature for use in piezoelectric energy harvester
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[001]-oriented crystalline Potassium-Sodium Niobate thin film fabricated at low temperature for use in piezoelectric energy harvester

Kim, Jong-Hyun ; Woo, Jong-Un ; Yee, Yeon-Jeong ; Kim, In-Su ; Shin, Ho-Sung ; Hwang, Hyun-Gyu ; Kweon, Sang Hyo ; Choi, Hyun-Ju ; Nahm, Sahn

Applied surface science, 2021-01, Vol.537, p.147871, Article 147871 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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5
0.10 μm TiSi2 technology utilizing nitrogen diffusion controlled RTA
0.10 μm TiSi2 technology utilizing nitrogen diffusion controlled RTA
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0.10 μm TiSi2 technology utilizing nitrogen diffusion controlled RTA

MATSUBARA, Y ; SAKAI, T ; ISHIGAMI, T ; ANDO, K ; HORIUCHI, T

Thin solid films, 1995-12, Vol.270 (1-2), p.537-543 [Periódico revisado por pares]

Lausanne: Elsevier Science

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6
0.12 micron logic process using a 248 nm step-and-scan system
0.12 micron logic process using a 248 nm step-and-scan system
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0.12 micron logic process using a 248 nm step-and-scan system

BAKER, Dan ; ZHENG, Tammy ; TAKEMOTO, Cliff ; SETHI, Satyendra ; GABRIEL, Calvin ; SCOTT, Greg

SPIE proceedings series, 2000, p.294-304

Bellingham WA: SPIE

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7
0.13-μm optical lithography for random logic devices using 248-nm attenuated phase-shifting masks
0.13-μm optical lithography for random logic devices using 248-nm attenuated phase-shifting masks
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0.13-μm optical lithography for random logic devices using 248-nm attenuated phase-shifting masks

Chen, Yung-Tin ; Lin, Chia-Hui ; Lin, Hua Tai ; Hsieh, Hung-Chang ; Yu, Shinn Sheng ; Yen, Anthony

SPIE 2000

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8
0.18-μm optical lithography performances using an alternating DUV phase-shift mask
0.18-μm optical lithography performances using an alternating DUV phase-shift mask
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Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

0.18-μm optical lithography performances using an alternating DUV phase-shift mask

Trouiller, Yorick ; Buffet, N ; Mourier, Thierry ; Schiavone, Patrick ; Quere, Yves

SPIE proceedings series, 1998, Vol.3334, p.25-35

Bellingham WA: SPIE

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9
0.25 μm trilevel lithography using KTI 747 negative resist for the planarizing layer
0.25 μm trilevel lithography using KTI 747 negative resist for the planarizing layer
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0.25 μm trilevel lithography using KTI 747 negative resist for the planarizing layer

KUNG, E. H ; TIMKO, A. G

Journal of the Electrochemical Society, 1990-11, Vol.137 (11), p.3568-3573 [Periódico revisado por pares]

Pennington, NJ: Electrochemical Society

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0.3-10.0 THz spectra for chosen liquid crystal molecules - simulation and physical properties
0.3-10.0 THz spectra for chosen liquid crystal molecules - simulation and physical properties
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0.3-10.0 THz spectra for chosen liquid crystal molecules - simulation and physical properties

Parka, Janusz ; Sielezin, Karol

Molecular Crystals and Liquid Crystals, 2017-11, Vol.657 (1), p.66-71 [Periódico revisado por pares]

Philadelphia: Taylor & Francis

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