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Stress-related effects in thin films
Stress-related effects in thin films
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Stress-related effects in thin films

Thornton, John A. ; Hoffman, D.W.

Thin solid films, 1989-04, Vol.171 (1), p.5-31 [Periódico revisado por pares]

Lausanne: Elsevier B.V

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Magnetic anisotropy in metallic ultrathin films and related experiments on cobalt films (invited)
Magnetic anisotropy in metallic ultrathin films and related experiments on cobalt films (invited)
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Magnetic anisotropy in metallic ultrathin films and related experiments on cobalt films (invited)

CHAPPERT, C ; BRUNO, P

J. Appl. Phys.; (United States), 1988-11, Vol.64 (10), p.5736-5741 [Periódico revisado por pares]

Woodbury, NY: American Institute of Physics

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3
Surface organometallic chemistry in the chemical vapor deposition of aluminum films using triisobutylaluminum: .beta.-hydride and .beta.-alkyl elimination reactions of surface alkyl intermediates
Surface organometallic chemistry in the chemical vapor deposition of aluminum films using triisobutylaluminum: .beta.-hydride and .beta.-alkyl elimination reactions of surface alkyl intermediates
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Surface organometallic chemistry in the chemical vapor deposition of aluminum films using triisobutylaluminum: .beta.-hydride and .beta.-alkyl elimination reactions of surface alkyl intermediates

Bent, Brian E ; Nuzzo, Ralph G ; Dubois, Lawrence H

J. Am. Chem. Soc.; (United States), 1989-03, Vol.111 (5), p.1634-1644 [Periódico revisado por pares]

Washington, DC: American Chemical Society

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4
Note on the origin of intrinsic stresses in films deposited via evaporation and sputtering
Note on the origin of intrinsic stresses in films deposited via evaporation and sputtering
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Note on the origin of intrinsic stresses in films deposited via evaporation and sputtering

D'Heurle, F.M. ; Harper, J.M.E.

Thin solid films, 1989-04, Vol.171 (1), p.81-92 [Periódico revisado por pares]

Lausanne: Elsevier B.V

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5
Microstructure modification of TiN by ion bombardment during reactive sputter deposition
Microstructure modification of TiN by ion bombardment during reactive sputter deposition
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Microstructure modification of TiN by ion bombardment during reactive sputter deposition

Petrov, I. ; Hultman, L. ; Helmersson, U. ; Sundgren, J.-E. ; Greene, J.E.

Thin solid films, 1989-02, Vol.169 (2), p.299-314 [Periódico revisado por pares]

Lausanne: Elsevier B.V

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6
Metal deposition from a supported metal film using an excimer laser
Metal deposition from a supported metal film using an excimer laser
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Metal deposition from a supported metal film using an excimer laser

BOHANDY, J ; KIM, B. F ; ADRIAN, F. J

Journal of applied physics, 1986-08, Vol.60 (4), p.1538-1539 [Periódico revisado por pares]

Woodbury, NY: American Institute of Physics

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7
Ferromagnetism and antiferromagnetism of 3d-metal overlayers on metals
Ferromagnetism and antiferromagnetism of 3d-metal overlayers on metals
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Ferromagnetism and antiferromagnetism of 3d-metal overlayers on metals

BLÜGEL, S ; WEINERT, M ; DEDERICHS, P. H

Phys. Rev. Lett.; (United States), 1988-03, Vol.60 (11), p.1077-1080 [Periódico revisado por pares]

Ridge, NY: American Physical Society

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8
A model for conductor failure considering diffusion concurrently with electromigration resulting in a current exponent of 2
A model for conductor failure considering diffusion concurrently with electromigration resulting in a current exponent of 2
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A model for conductor failure considering diffusion concurrently with electromigration resulting in a current exponent of 2

SHATZKES, M ; LLOYD, J. R

Journal of applied physics, 1986-06, Vol.59 (11), p.3890-3893 [Periódico revisado por pares]

Woodbury, NY: American Institute of Physics

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9
Relationship between interfacial strain and the elastic response of multilayer metal films
Relationship between interfacial strain and the elastic response of multilayer metal films
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Relationship between interfacial strain and the elastic response of multilayer metal films

CLEMENS, B. M ; EESLEY, G. L

Physical review letters, 1988-11, Vol.61 (20), p.2356-2359 [Periódico revisado por pares]

Ridge, NY: American Physical Society

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10
Mechanical stress as a function of temperature in aluminum films
Mechanical stress as a function of temperature in aluminum films
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Mechanical stress as a function of temperature in aluminum films

Gardner, D.S. ; Flinn, P.A.

IEEE transactions on electron devices, 1988-12, Vol.35 (12), p.2160-2169 [Periódico revisado por pares]

New York, NY: IEEE

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