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1
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Artigo
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Chemical processing with lasers: Recent developments

Bäuerle, D.

Applied Physics B, 1988, Vol.46(3), pp.261-270 [Periódico revisado por pares]

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2
Material Type:
Artigo
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Laser-induced chemical etching of silicon in chlorine atmosphere

Kullmer, R. ; Bäuerle, D.

Applied Physics A, 1988, Vol.47(4), pp.377-386 [Periódico revisado por pares]

Texto completo disponível

3
Laser-induced chemical etching of silicon in chlorine atmosphere: III. Combined cw and pulsed irradiation
Material Type:
Artigo
Adicionar ao Meu Espaço

Laser-induced chemical etching of silicon in chlorine atmosphere: III. Combined cw and pulsed irradiation

Kullmer, R. ; Bäuerle, D.

Applied Physics A: Solids and Surface, 12/1988, Vol.47(4), pp.377-386 [Periódico revisado por pares]

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4
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Artigo
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Excimer-laser-induced ablation of the high- T c superconductor Bi-Ca-Sr-Cu-O

Kullmer, R. ; Bäuerle, D.

Applied Physics A, 1988, Vol.47(1), pp.103-104 [Periódico revisado por pares]

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5
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Artigo
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Excimer-laser ablation and micro-patterning of ceramic Si3N4

Heitz, J. ; Pedarnig, J.D. ; Bäuerle, D. ; Petzow, G.

Applied Physics A, 1997, Vol.65(3), pp.259-261 [Periódico revisado por pares]

Texto completo disponível

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6
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Artigo
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Laser-induced surface metallization of ceramic PLZT

Kapenieks, A. ; Eyett, M. ; Bäuerle, D.

Applied Physics A, 1986, Vol.41(4), pp.331-334 [Periódico revisado por pares]

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7
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Artigo
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Direct laser writing of superconducting patterns into semiconducting ceramic Y-Ba-Cu-O

Liberts, G. ; Eyett, M. ; Bäuerle, D.

Applied Physics A, 1988, Vol.46(4), pp.331-334 [Periódico revisado por pares]

Texto completo disponível

8
Material Type:
Artigo
Adicionar ao Meu Espaço

Direct laser writing of superconducting patterns into semiconducting ceramic Y-Ba-Cu-O

Liberts, G. ; Eyett, M. ; Bäuerle, D.

Applied Physics A, 1988, Vol.46(4), pp.331-334 [Periódico revisado por pares]

Texto completo disponível

9
Material Type:
Artigo
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Laser-induced surface reduction of the high- T c superconductor YBa 2 Cu 3 O 7− x

Liberts, G. ; Eyett, M. ; Bäuerle, D.

Applied Physics A, 1988, Vol.45(4), pp.313-316 [Periódico revisado por pares]

Texto completo disponível

10
Material Type:
Artigo
Adicionar ao Meu Espaço

Laser-induced chemical etching of silicon in chlorine atmosphere

Mogyorósi, P. ; Piglmayer, K. ; Kullmer, R. ; Bäuerle, D.

Applied Physics A, 1988, Vol.45(4), pp.293-299 [Periódico revisado por pares]

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