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Femtosecond excimer-laser-induced structure formation on polymers
Femtosecond excimer-laser-induced structure formation on polymers
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Femtosecond excimer-laser-induced structure formation on polymers

HEITZ, J ; ARENHOLZ, E ; BÄUERLE, D ; SAUERBREY, R ; PHILLIPS, H. M

Applied Physics A Solids and Surfaces, 1994-09, Vol.59 (3), p.289-293 [Periódico revisado por pares]

Heidelberg: Springer

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Excimer-laser-induced ablation of the high-Tc superconductor Bi-Ca-Sr-Cu-O
Excimer-laser-induced ablation of the high-Tc superconductor Bi-Ca-Sr-Cu-O
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Excimer-laser-induced ablation of the high-Tc superconductor Bi-Ca-Sr-Cu-O

KULLMER, R ; BÄUERLE, D

Applied physics. A, Solids and surfaces, 1988-09, Vol.47 (1), p.103-104 [Periódico revisado por pares]

Heidelberg: Springer

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On the reaction kinetics in laser-induced pyrolytic chemical processing
On the reaction kinetics in laser-induced pyrolytic chemical processing
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On the reaction kinetics in laser-induced pyrolytic chemical processing

BÄUERLE, D ; LUK'YANCHUK, B ; PIGLMAYER, K

Applied Physics A Solids and Surfaces, 1990-04, Vol.50 (4), p.385-396 [Periódico revisado por pares]

Heidelberg: Springer

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On the kinetics of non-equimolecular reactions in laser chemical processing
On the kinetics of non-equimolecular reactions in laser chemical processing
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On the kinetics of non-equimolecular reactions in laser chemical processing

KIRICHENKO, N ; PIGLMAYER, K ; BÄUERLE, D

Applied Physics A Solids and Surfaces, 1990-12, Vol.51 (6), p.498-507 [Periódico revisado por pares]

Heidelberg: Springer

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Chemical processing with lasers: recent developments
Chemical processing with lasers: recent developments
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Chemical processing with lasers: recent developments

BAUERLE, D

Applied Physics B Photophysics and Laser Chemistry, 1988-07, Vol.46 (3), p.261-270 [Periódico revisado por pares]

Berlin: Springer

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Laser-induced chemical etching of silicon in chlorine atmosphere. III: Combined cw and pulsed irradiation
Laser-induced chemical etching of silicon in chlorine atmosphere. III: Combined cw and pulsed irradiation
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Laser-induced chemical etching of silicon in chlorine atmosphere. III: Combined cw and pulsed irradiation

KULLMER, R ; BAUERLE, D

Applied Physics A: Solids and Surface, 1988-12, Vol.47 (4), p.377-386 [Periódico revisado por pares]

Heidelberg: Springer

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Laser-induced surface reduction of the high-Tc superconductor YBa2Cu3O7―x
Laser-induced surface reduction of the high-Tc superconductor YBa2Cu3O7―x
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Laser-induced surface reduction of the high-Tc superconductor YBa2Cu3O7―x

LIBERTS, G ; EYETT, M ; BAUERLE, D

Applied physics. A, Solids and surfaces, 1988-04, Vol.45 (4), p.313-316 [Periódico revisado por pares]

Heidelberg: Springer

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8
Laser-induced chemical etching of silicon in chlorine atmosphere. I: Pulsed irradiation
Laser-induced chemical etching of silicon in chlorine atmosphere. I: Pulsed irradiation
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Laser-induced chemical etching of silicon in chlorine atmosphere. I: Pulsed irradiation

KULLMER, R ; BAUERLE, D

Applied Physics A Solids and Surfaces, 1987-07, Vol.43 (3), p.227-232 [Periódico revisado por pares]

Heidelberg: Springer

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Laser-induced chemical etching of silicon on chlorine atmosphere. II: Continuous irradiation
Laser-induced chemical etching of silicon on chlorine atmosphere. II: Continuous irradiation
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Laser-induced chemical etching of silicon on chlorine atmosphere. II: Continuous irradiation

MOGYOROSI, P ; PIGLMAYER, K ; KULLMER, R ; BAUERLE, D

Applied Physics A Solids and Surfaces, 1988-04, Vol.45 (4), p.293-299 [Periódico revisado por pares]

Heidelberg: Springer

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10
Laser-induced chemical etching of ceramic PbTi1?xZrxO3
Laser-induced chemical etching of ceramic PbTi1?xZrxO3
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Laser-induced chemical etching of ceramic PbTi1?xZrxO3

Eyett, M. ; B uerle, D. ; Wersing, W. ; Lubitz, K. ; Thomann, H.

Applied Physics A Solids and Surfaces, 1986-08, Vol.40 (4), p.235-239 [Periódico revisado por pares]

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