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Refinado por: Nome da Publicação: Microelectronic Engineering remover
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Investigation of new dry high sensitive resist using 100 kV electron lithography
Investigation of new dry high sensitive resist using 100 kV electron lithography
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Investigation of new dry high sensitive resist using 100 kV electron lithography

Babin, S.V. ; Holopkin, A.I. ; Lyakhov, M.N. ; Valiev, K.A. ; Velikov, L.V. ; Zhikharev, E.N.

Microelectronic engineering, 1994, Vol.23 (1), p.303-305 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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