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Toughness enhancement in TiAlN-based quarternary alloys

Sangiovanni, D.G ; Chirita, V ; Hultman, L

Thin Solid Films, 30 March 2012, Vol.520(11), pp.4080-4088 [Periódico revisado por pares]

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Reliable determination of chemical state in x-ray photoelectron spectroscopy based on sample-work-function referencing to adventitious carbon: Resolving the myth of apparent constant binding energy of the C 1s peak

Greczynski, G ; Hultman, L

Applied Surface Science, 01 September 2018, Vol.451, pp.99-103 [Periódico revisado por pares]

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Self-consistent modelling of X-ray photoelectron spectra from air-exposed polycrystalline TiN thin films

Greczynski, G ; Hultman, L

Applied Surface Science, 30 November 2016, Vol.387, pp.294-300 [Periódico revisado por pares]

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Strain evolution during spinodal decomposition of TiAlN thin films

Rogström, L ; Ullbrand, J ; Almer, J ; Hultman, L ; Jansson, B ; Odén, M

Thin Solid Films, 30 June 2012, Vol.520(17), pp.5542-5549 [Periódico revisado por pares]

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Artigo
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Spinodal decomposition of Ti0.33Al0.67N thin films studied by atom probe tomography

Johnson, L.J.S ; Thuvander, M ; Stiller, K ; Odén, M ; Hultman, L

Thin Solid Films, 30 April 2012, Vol.520(13), pp.4362-4368 [Periódico revisado por pares]

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Artigo
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Intercalation of P atoms in Fullerene-like CPx

Gueorguiev, G.K ; Czigány, Zs ; Furlan, A ; Stafström, S ; Hultman, L

Chemical Physics Letters, 07 January 2011, Vol.501(4-6), pp.400-403 [Periódico revisado por pares]

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Artigo
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Mitigating the geometrical limitations of conventional sputtering by controlling the ion-to-neutral ratio during high power pulsed magnetron sputtering

Greczynski, G ; Jensen, J ; Hultman, L

Thin Solid Films, 2011, Vol.519(19), pp.6354-6361 [Periódico revisado por pares]

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Reference binding energies of transition metal carbides by core-level x-ray photoelectron spectroscopy free from Ar+ etching artefacts

Greczynski, G ; Primetzhofer, D ; Hultman, L

Applied Surface Science, 01 April 2018, Vol.436, pp.102-110 [Periódico revisado por pares]

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Supertoughening in B1 transition metal nitride alloys by increased valence electron concentration

Sangiovanni, D.G ; Hultman, L ; Chirita, V

Acta Materialia, 2011, Vol.59(5), pp.2121-2134 [Periódico revisado por pares]

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Effects of A-elements (ASi, Ge or Sn) on the structure and electrical contact properties of Ti–A–C–Ag nanocomposites

Lauridsen, J ; Eklund, P ; Jensen, J ; Furlan, A ; Flink, A ; Andersson, A.M ; Jansson, U ; Hultman, L

Thin Solid Films, 01 June 2012, Vol.520(16), pp.5128-5136 [Periódico revisado por pares]

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