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Refinado por: assunto: X-Ray Diffraction remover Base de dados/Biblioteca: OneFile (GALE) remover
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Microstructure evolution during the isostructural decomposition of TiAlN — A combined in-situ small angle x-ray scattering and phase field study

Knutsson, A. ; Ullbrand, J. ; Rogström, L. ; Norrby, N. ; Johnson, L. J. S. ; Hultman, L. ; Almer, J. ; Johansson Jöesaar, M. P. ; Jansson, B. ; Odén, M.

Journal of Applied Physics, 07 June 2013, Vol.113(21) [Periódico revisado por pares]

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SiN x coatings deposited by reactive high power impulse magnetron sputtering: Process parameters influencing the residual coating stress

Schmidt, S. ; Hänninen, T. ; Wissting, J. ; Hultman, L. ; Goebbels, N. ; Santana, A. ; Tobler, M. ; Högberg, H.

Journal of Applied Physics, 07 May 2017, Vol.121(17) [Periódico revisado por pares]

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Two-domain formation during the epitaxial growth of GaN (0001) on c-plane [Al.sub.2][O.sub.3] (0001) by high power impulse magnetron sputtering.(Report)

Junaid, M. ; Lundin, D. ; Palisaitis, J. ; Hsiao, C. - L. ; Darakchieva, V. ; Jensen, J. ; Persson, P. O. A. ; Sandstrom, P. ; Lai, W. - J. ; Chen, L. - C. ; Chen, K. - H. ; Helmersson, U. ; Hultman, L. ; Birch, J.

Journal of Applied Physics, Dec 15, 2011, Vol.110(12), p.123519-1-123519-9 [Periódico revisado por pares]

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Deviations from Vegard's rule in Al{sub 1-x}In{sub x}N (0001) alloy thin films grown by magnetron sputter epitaxy

Seppaenen, T ; Hultman, L ; Birch, J ; Beckers, M ; Kreissig, U ; Institute for Ion Beam Physics and Materials Science

Journal of Applied Physics, 15 February 2007, Vol.101(4) [Periódico revisado por pares]

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Epitaxial growth and orientation of AlN thin films on Si(001) substrates deposited by reactive magnetron sputtering

Valcheva, E. ; Birch, J. ; Persson, P. O. Å. ; Tungasmita, S. ; Hultman, L.

Journal of Applied Physics, 15 December 2006, Vol.100(12) [Periódico revisado por pares]

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Magnetron sputter epitaxy of wurtzite Al 1 − x In x N ( 0.1 < x < 0.9 ) by dual reactive dc magnetron sputter deposition

Seppänen, T. ; Persson, P. O. Å. ; Hultman, L. ; Birch, J. ; Radnóczi, G. Z.

Journal of Applied Physics, 15 April 2005, Vol.97(8) [Periódico revisado por pares]

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Microstructure and electrical properties of Ti–Si–C–Ag nanocomposite thin films

Eklund, P ; Joelsson, T ; Ljungcrantz, H ; Wilhelmsson, O ; Czigány, Zs ; Högberg, H ; Hultman, L

Surface & Coatings Technology, 2007, Vol.201(14), pp.6465-6469 [Periódico revisado por pares]

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Synthesis of the novel Zr3AlC2 MAX phase

Lapauw, T ; Halim, J ; Lu, J ; Cabioc'H, T ; Hultman, L ; Barsoum, M.W ; Lambrinou, K ; Vleugels, J

Journal of the European Ceramic Society, February 2016, Vol.36(3), pp.943-947 [Periódico revisado por pares]

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Phase transformation in κ- and γ-Al 2O 3 coatings on cutting tool inserts

Trinh, D.H ; Back, K ; Pozina, G ; Blomqvist, H ; Selinder, T ; Collin, M ; Reineck, I ; Hultman, L ; Högberg, H

Surface & Coatings Technology, 2009, Vol.203(12), pp.1682-1688 [Periódico revisado por pares]

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Direct current magnetron sputtering deposition of nanocomposite alumina — zirconia thin films

Trinh, D.H ; Kubart, T ; Nyberg, T ; Ottosson, M ; Hultman, L ; Högberg, H

Thin Solid Films, 2008, Vol.516(23), pp.8352-8358 [Periódico revisado por pares]

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