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Refinado por: assunto: Plasma remover Base de dados/Biblioteca: AIP Member Society Journals remover
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Artigo
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Spatially resolved measurements of ion density and electron temperature in a dual-frequency capacitively coupled plasma by complete floating double probe technique

Jiang, Xiang-Zhan ; Liu, Yong-Xin ; Yang, Shuo ; Lu, Wen-Qi ; Bi, Zhen-Hua ; Li, Xiao-Song ; Wang, You-Nian

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, January 2011, Vol.29(1) [Periódico revisado por pares]

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Artigo
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Process monitoring during AlN x O y deposition by reactive magnetron sputtering and correlation with the film's properties

Borges, Joel ; Martin, Nicolas ; Vaz, Filipe ; Marques, Luis

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, March 2014, Vol.32(2) [Periódico revisado por pares]

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3
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Artigo
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Modeling of inductively coupled plasma SF 6 /O 2 /Ar plasma discharge: Effect of O 2 on the plasma kinetic properties

Pateau, Amand ; Rhallabi, Ahmed ; Fernandez, Marie-Claude ; Boufnichel, Mohamed ; Roqueta, Fabrice

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, March 2014, Vol.32(2) [Periódico revisado por pares]

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Artigo
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Pulsed high-density plasmas for advanced dry etching processes

Banna, Samer ; Agarwal, Ankur ; Cunge, Gilles ; Darnon, Maxime ; Pargon, Erwine ; Joubert, Olivier

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, July 2012, Vol.30(4) [Periódico revisado por pares]

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Effect of surface derived hydrocarbon impurities on Ar plasma properties

Fox-Lyon, Nick ; Oehrlein, Gottlieb S. ; Godyak, Valery

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, May 2014, Vol.32(3) [Periódico revisado por pares]

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Artigo
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Control of plasma parameters by using noble gas admixtures

Taylor, Kurt J. ; Yun, Seokmin ; Tynan, George R.

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, September 2004, Vol.22(5), pp.2131-2138 [Periódico revisado por pares]

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Modeling of inductively coupled plasma Ar/Cl 2 /N 2 plasma discharge: Effect of N 2 on the plasma properties

Chanson, Romain ; Rhallabi, Ahmed ; Fernandez, Marie Claude ; Cardinaud, Christophe ; Landesman, Jean Pierre

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, January 2013, Vol.31(1) [Periódico revisado por pares]

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Etching mechanism of MgO thin films in inductively coupled Cl 2 ∕ Ar plasma

Efremov, A. M. ; Koo, Seong-Mo ; Kim, Dong-Pyo ; Kim, Kyoung-Tae ; Kim, Chang-Il

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, September 2004, Vol.22(5), pp.2101-2106 [Periódico revisado por pares]

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Artigo
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Characterization of a plasma produced by pulsed arc using an electrostatic double probe

García, L. A. ; Pulzara, A. O. ; Devia, A. ; Restrepo, E.

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, May 2005, Vol.23(3), pp.551-553 [Periódico revisado por pares]

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Artigo
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Doppler shift measurements of ion energy distribution widths in an electron cyclotron resonance/multipole hybrid reactor

Forster, John ; Klepper, C. Chris ; Berry, Lee A. ; Gorbatkin, S. M.

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, September 1992, Vol.10(5), pp.3114-3118 [Periódico revisado por pares]

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