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Refinado por: assunto: Substrates remover assunto: Sputtering remover autor: Hultman, Lars remover
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Electronic-grade GaN ( 0001 ) / Al 2 O 3 ( 0001 ) grown by reactive DC-magnetron sputter epitaxy using a liquid Ga target

Junaid, M. ; Hsiao, C.-L. ; Palisaitis, J. ; Jensen, J. ; Persson, P. O. Å. ; Hultman, L. ; Birch, J.

Applied Physics Letters, 04 April 2011, Vol.98(14) [Periódico revisado por pares]

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2
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Cubic Sc 1 − x Al x N solid solution thin films deposited by reactive magnetron sputter epitaxy onto ScN(111)

Höglund, Carina ; Bareño, Javier ; Birch, Jens ; Alling, Björn ; Czigány, Zsolt ; Hultman, Lars

Journal of Applied Physics, 01 June 2009, Vol.105(11) [Periódico revisado por pares]

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Artigo
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Epitaxial growth and orientation of AlN thin films on Si(001) substrates deposited by reactive magnetron sputtering

Valcheva, E. ; Birch, J. ; Persson, P. O. Å. ; Tungasmita, S. ; Hultman, L.

Journal of Applied Physics, 15 December 2006, Vol.100(12) [Periódico revisado por pares]

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Artigo
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Growth of Ti 3 SiC 2 thin films by elemental target magnetron sputtering

Emmerlich, Jens ; Högberg, Hans ; Sasvári, Szilvia ; Persson, Per O. Å. ; Hultman, Lars ; Palmquist, Jens-Petter ; Jansson, Ulf ; Molina-Aldareguia, Jon M. ; Czigány, Zsolt

Journal of Applied Physics, 01 November 2004, Vol.96(9), pp.4817-4826 [Periódico revisado por pares]

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