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Artigo
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Chemical processing with lasers: Recent developments

Bäuerle, D.

Applied Physics B, 1988, Vol.46(3), pp.261-270 [Periódico revisado por pares]

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2
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Artigo
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Self-cooling of a micromirror by radiation pressure

S. Gigan ; H. R. Böhm ; M. Paternostro ; F. Blaser ; G. Langer ; J. B. Hertzberg ; K. C. Schwab ; D. Bäuerle ; M. Aspelmeyer ; A. Zeilinger

Nature, 2006, Vol.444(7115), p.67 [Periódico revisado por pares]

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3
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Artigo
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Adhesion and proliferation of human endothelial cells on photochemically modified polytetrafluoroethylene

Gumpenberger, T ; Heitz, J ; Bäuerle, D ; Kahr, H ; Graz, I ; Romanin, C ; Svorcik, V ; Leisch, F

Biomaterials, December 2003, Vol.24(28), pp.5139-44 [Periódico revisado por pares]

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4
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Artigo
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High reflectivity high- Q micromechanical Bragg mirror

Böhm, H. R. ; Gigan, S. ; Blaser, F. ; Zeilinger, A. ; Aspelmeyer, M. ; Langer, G. ; Bäuerle, D. ; Hertzberg, J. B. ; Schwab, K. C.

Applied Physics Letters, 27 November 2006, Vol.89(22) [Periódico revisado por pares]

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Artigo
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Effect of varying material anisotropy on critical current anisotropy in vicinal YBa 2 Cu 3 O 7−δ thin films

Durrell, J. H. ; Evetts, J. E. ; Rössler, R. ; Delamare, M. P. ; Pedarnig, J. D. ; Bäuerle, D.

Applied Physics Letters, 15 December 2003, Vol.83(24), pp.4999-5001 [Periódico revisado por pares]

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6
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Kr + laser‐induced chemical vapor deposition of W

Zhang, G. Q. ; Szörényi, T. ; Bäuerle, D.

Journal of Applied Physics, 15 July 1987, Vol.62(2), pp.673-675 [Periódico revisado por pares]

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Excimer‐laser‐induced etching of ceramic PbTi 1− x Zr x O 3

Eyett, M. ; Bäuerle, D. ; Wersing, W. ; Thomann, H.

Journal of Applied Physics, 15 August 1987, Vol.62(4), pp.1511-1514 [Periódico revisado por pares]

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8
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KrF laser‐induced ablation and patterning of Y–Ba–Cu–O films

Heitz, J. ; Wang, X. Z. ; Schwab, P. ; Bäuerle, D. ; Schultz, L.

Journal of Applied Physics, 01 September 1990, Vol.68(5), pp.2512-2514 [Periódico revisado por pares]

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9
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Artigo
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Laser-induced chemical etching of silicon in chlorine atmosphere

Kullmer, R. ; Bäuerle, D.

Applied Physics A, 1988, Vol.47(4), pp.377-386 [Periódico revisado por pares]

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10
Laser-induced chemical etching of silicon in chlorine atmosphere: III. Combined cw and pulsed irradiation
Material Type:
Artigo
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Laser-induced chemical etching of silicon in chlorine atmosphere: III. Combined cw and pulsed irradiation

Kullmer, R. ; Bäuerle, D.

Applied Physics A: Solids and Surface, 12/1988, Vol.47(4), pp.377-386 [Periódico revisado por pares]

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