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1
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Artigo
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Effect of alpha prime due to 475 degrees C aging on fracture behavior and corrosion resistance of DIN 1.4575 and MA 956 high performance ferritic stainless steels

Terada, Maysa; Hupalo, Marcio F.; Costa, Isolda; Padilha, Angelo F. Universidade De São Paulo

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE, v.43, n.2, p.425-433, 2008

SPRINGER 2008

Acesso online

2
Effective models for low-dimensional strongly correlated systems : Peyresq, France, 12-16 September 2005
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Livro
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Effective models for low-dimensional strongly correlated systems : Peyresq, France, 12-16 September 2005

G. George Batrouni (Ghassan George), 1956-; Didier Poilblanc

Melville, N.Y. : American Institute of Physics 2006

Localização: IF - Instituto de Física    (MS AIP v.816 )(Acessar)

3
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Artigo
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Influence of the network modifier on the characteristics of MSnO3 (M=Sr and,Ca) thin films synthesized by chemical solution deposition

Alves, M. C. F.; Marinho, R. M. M.; Casali, G. P.; Siu-Li, M.; Deputier, S.; Guilloux-Viry, M.; Souza, A. G.; Longo, E.; Weber, I. T.; Santos, I. M. G.; Bouquet, V. Universidade Estadual Paulista (UNESP); Universidade Estadual Paulista (Unesp)

Journal of Solid State Chemistry

Elsevier B.V. 2013

Acesso online

4
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Artigo
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Electron temperature measurement of tungsten inert gas arcs

Tanaka, Manabu ; Tashiro, Shinichi

Thin Solid Films, 2008, Vol.516(19), pp.6628-6633 [Periódico revisado por pares]

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5
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Artigo
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Investigation of plasma parameters in 915 MHz ECR plasma with SiH 4/H 2 mixtures

Thang, Doan Ha ; Muta, Hiroshi ; Kawai, Yoshinobu

Thin Solid Films, 2008, Vol.516(13), pp.4452-4455 [Periódico revisado por pares]

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6
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Artigo
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Electron-temperature control by varying dc voltage to a mesh grid covered by thin film in plasmas

Kato, Kohgi ; Emi, Jyunichi ; Iizuka, Satoru

Thin Solid Films, 2007, Vol.515(9), pp.4094-4097 [Periódico revisado por pares]

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7
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Artigo
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Electron temperature measurement in SiH 4/H 2 ECR plasma produced by 915 MHz microwaves

Itagaki, N ; Sasaki, K ; Kawai, Y

Thin Solid Films, 2006, Vol.506, pp.479-484 [Periódico revisado por pares]

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8
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Production of a large diameter ECR plasma with low electron temperature

Koga, Mayuko ; Hishikawa, Yasuhiro ; Tsuchiya, Hayato ; Kawai, Yoshinobu

Thin Solid Films, 2006, Vol.506, pp.499-502 [Periódico revisado por pares]

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9
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Artigo
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Characteristics of the plasma parameters in the fabrication of microcrystalline silicon thin films using 915 MHz ECR plasma

Ha Thang, Doan ; Sasaki, K ; Muta, H ; Itagaki, N ; Kawai, Y

Thin Solid Films, 2006, Vol.506, pp.485-488 [Periódico revisado por pares]

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10
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Artigo
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Characteristics of the electron temperature in the downstream regions of N 2/Ar ECR plasmas

Muta, Hiroshi ; Thang, Doan Ha ; Kawai, Yoshinobu

Thin Solid Films, 2006, Vol.506, pp.541-544 [Periódico revisado por pares]

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