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(0 0 0 1) oriented GaN epilayer grown on [formula omitted] sapphire by MOCVD
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(0 0 0 1) oriented GaN epilayer grown on [formula omitted] sapphire by MOCVD

Bai, J. ; Wang, T. ; Li, H.D. ; Jiang, N. ; Sakai, S.

Journal of crystal growth, 2001-09, Vol.231 (1), p.41-47 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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2
(0 0 1) Textured CoPt/Ag films and nanocomposites: the effect of Ag underlayers
(0 0 1) Textured CoPt/Ag films and nanocomposites: the effect of Ag underlayers
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(0 0 1) Textured CoPt/Ag films and nanocomposites: the effect of Ag underlayers

Manios, E. ; Karanasos, V. ; Niarchos, D. ; Panagiotopoulos, I.

Journal of magnetism and magnetic materials, 2004-05, Vol.272, p.2169-2170 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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3
(0 0 2)-oriented growth and morphologies of ZnO thin films prepared by sol-gel method
(0 0 2)-oriented growth and morphologies of ZnO thin films prepared by sol-gel method
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(0 0 2)-oriented growth and morphologies of ZnO thin films prepared by sol-gel method

Guo, Dongyun ; Ju, Yang ; Fu, Chengju ; Huang, Zhixiong ; Zhang, Lianmeng

Materials science--Poland, 2016-09, Vol.34 (3), p.555-563 [Periódico revisado por pares]

De Gruyter

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4
[0 1 0] dislocations in the complex metallic alloy ξ ′-Al–Pd–Mn
[0 1 0] dislocations in the complex metallic alloy ξ ′-Al–Pd–Mn
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[0 1 0] dislocations in the complex metallic alloy ξ ′-Al–Pd–Mn

Feuerbacher, M ; Caillard, D

Acta materialia, 2004-03, Vol.52 (5), p.1297-1304 [Periódico revisado por pares]

Oxford: Elsevier Ltd

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5
0–1 linear integer programming method for granule knowledge reduction and attribute reduction in concept lattices
0–1 linear integer programming method for granule knowledge reduction and attribute reduction in concept lattices
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0–1 linear integer programming method for granule knowledge reduction and attribute reduction in concept lattices

Li, Lifeng ; Zhang, Dongxiao

Soft computing (Berlin, Germany), 2019-01, Vol.23 (2), p.383-391 [Periódico revisado por pares]

Berlin/Heidelberg: Springer Berlin Heidelberg

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6
[0001] Compression response at room temperature of single-crystal magnesium
[0001] Compression response at room temperature of single-crystal magnesium
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[0001] Compression response at room temperature of single-crystal magnesium

Syed, B. ; Geng, J. ; Mishra, R.K. ; Kumar, K.S.

Scripta materialia, 2012-10, Vol.67 (7-8), p.700-703 [Periódico revisado por pares]

Elsevier Ltd

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7
[001]-oriented crystalline Potassium-Sodium Niobate thin film fabricated at low temperature for use in piezoelectric energy harvester
[001]-oriented crystalline Potassium-Sodium Niobate thin film fabricated at low temperature for use in piezoelectric energy harvester
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[001]-oriented crystalline Potassium-Sodium Niobate thin film fabricated at low temperature for use in piezoelectric energy harvester

Kim, Jong-Hyun ; Woo, Jong-Un ; Yee, Yeon-Jeong ; Kim, In-Su ; Shin, Ho-Sung ; Hwang, Hyun-Gyu ; Kweon, Sang Hyo ; Choi, Hyun-Ju ; Nahm, Sahn

Applied surface science, 2021-01, Vol.537, p.147871, Article 147871 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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8
0.05 μm (3σ) overlay accuracy through-the-lens alignment in an excimer laser lithography system: MicroProcess
0.05 μm (3σ) overlay accuracy through-the-lens alignment in an excimer laser lithography system: MicroProcess
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0.05 μm (3σ) overlay accuracy through-the-lens alignment in an excimer laser lithography system: MicroProcess

HIGASHIKI, T ; TOJO, T ; TAKAHASHI, Y ; TABATA, M ; NISHIZAKA, T ; KUWABARA, O ; UCHIDA, N ; YOSHINO, H ; SAITO, S

Japanese journal of applied physics, 1992, Vol.31 (12B), p.4161-4166 [Periódico revisado por pares]

Tokyo: Japanese journal of applied physics

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9
(006)-oriented α-Al2O3 films prepared in CO2–H2 atmosphere by laser chemical vapor deposition using a diode laser
(006)-oriented α-Al2O3 films prepared in CO2–H2 atmosphere by laser chemical vapor deposition using a diode laser
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(006)-oriented α-Al2O3 films prepared in CO2–H2 atmosphere by laser chemical vapor deposition using a diode laser

You, Yu ; Ito, Akihiko ; Tu, Rong ; Goto, Takashi

Materials science & engineering. B, Solid-state materials for advanced technology, 2011-08, Vol.176 (13), p.984-989 [Periódico revisado por pares]

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10
0.1-Micrometer scaling by 1:1 synchrotron radiation lithography
0.1-Micrometer scaling by 1:1 synchrotron radiation lithography
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0.1-Micrometer scaling by 1:1 synchrotron radiation lithography

Mochiji, K ; Ogawa, T ; Oizumil, H ; Soga, T

Microelectronic engineering, 1992-11, Vol.18 (4), p.333-340 [Periódico revisado por pares]

AMSTERDAM: Elsevier B.V

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