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Statistical modeling of epitaxial thin films of an intrinsic antiferromagnetic topological insulator
Statistical modeling of epitaxial thin films of an intrinsic antiferromagnetic topological insulator
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Statistical modeling of epitaxial thin films of an intrinsic antiferromagnetic topological insulator

Rafaela Felix da Silva Penacchio Celso I Fornari; Yorí G Camillo; Philipp Kagerer; Sebastian Buchberger; Martin Kamp; Hendrik Bentmann; Friedrich Reinert; Sergio Luiz Morelhão

Thin Solid Films Amsterdam: Elsevier, 2022 v. 750, 31 de maio de 2022, número do artigo: 139183

Amsterdam 2022

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Molecular beam epitaxy of antiferromagnetic (MnBi2Te4)(Bi2Te3) thin films on BaF2 (111)
Molecular beam epitaxy of antiferromagnetic (MnBi2Te4)(Bi2Te3) thin films on BaF2 (111)
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Molecular beam epitaxy of antiferromagnetic (MnBi2Te4)(Bi2Te3) thin films on BaF2 (111)

Philipp Kagerer Celso Israel Fornari; S Buchberger; Sergio L Morelhao https://orcid.org/0000-0003-1643-0948; R. C Vidal; Abdul-Vakhab Tcakaev; V Zabolotnyy; E Weschke; Vladimir Hinkov; Martin Kamp; B Büchner; Anna Isaeva; H Bentmann; F Reinert

Journal of Applied Physics Maryland: AIP-American Institute of Physics, 2020 v. 128, n. 13, número do artigo: 135303, 05 outubro 2020, online

Maryland 2020

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