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1	Material Type: Artigo		Formation of basal plane fiber-textured Ti2AlN films on amorphous substrates Beckers, M. ; Eriksson, F. ; Lauridsen, J. ; Baehtz, C. ; Jensen, J. ; Hultman, L. Physica status solidi. PSS-RRL. Rapid research letters, 2010-06, Vol.4 (5-6), p.121-123 [Periódico revisado por pares] Berlin: WILEY-VCH Verlag Texto completo disponível Exibir Online Detalhes Resenhas & Tags Mais Opções Nº de Citações Citações Citado por
2	$Synchrotron x-ray diffraction and transmission electron microscopy studies of interfacial reaction paths and kinetics during annealing of fully-002-textured Al/TiN bilayers$ $Synchrotron x-ray diffraction and transmission electron microscopy studies of interfacial reaction paths and kinetics during annealing of fully-002-textured Al/TiN bilayers$ Material Type: Artigo		Synchrotron x-ray diffraction and transmission electron microscopy studies of interfacial reaction paths and kinetics during annealing of fully-002-textured Al/TiN bilayers Chun, J.-S. ; Carlsson, J. R. A. ; Desjardins, P. ; Bergstrom, D. B. ; Petrov, I. ; Greene, J. E. ; Lavoie, C. ; Cabral, C. ; Hultman, L. J. Vac. Sci. Technol. A, 2001-01, Vol.19 (1), p.182-191 [Periódico revisado por pares] United States Texto completo disponível Exibir Online Detalhes Resenhas & Tags Mais Opções Nº de Citações Citações Citado por
3	Material Type: Artigo		Microstructure and electrical properties of Ti–Si–C–Ag nanocomposite thin films Eklund, P. ; Joelsson, T. ; Ljungcrantz, H. ; Wilhelmsson, O. ; Czigány, Zs ; Högberg, H. ; Hultman, L. Surface & coatings technology, 2007, Vol.201 (14), p.6465-6469 [Periódico revisado por pares] Lausanne: Elsevier B.V Texto completo disponível Exibir Online Detalhes Resenhas & Tags Mais Opções Nº de Citações Citações Citado por
4	Material Type: Artigo		Homoepitaxial growth of Ti-Si-C MAX-phase thin films on bulk Ti3SiC2 substrates EKLUND, P ; MURUGAIAH, A ; EMMERLICH, J ; CZIGANY, Zs ; FRODELIUS, J ; BARSOUM, M. W ; HÖGBERG, H ; HULTMAN, L Journal of crystal growth, 2007-06, Vol.304 (1), p.264-269 [Periódico revisado por pares] Amsterdam: Elsevier Texto completo disponível Exibir Online Detalhes Resenhas & Tags Mais Opções Nº de Citações Citações Citado por
5	Material Type: Artigo		Sputter deposition from a Ti2AlC target: Process characterization and conditions for growth of Ti2AlC FRODELIUS, J ; EKLUND, P ; BECKERS, M ; PERSSON, P. O. A ; HÖGBERG, H ; HULTMAN, L Thin solid films, 2010, Vol.518 (6), p.1621-1626 [Periódico revisado por pares] Amsterdam: Elsevier Texto completo disponível Exibir Online Detalhes Resenhas & Tags Mais Opções Nº de Citações Citações Citado por
6	Material Type: Artigo		Ti2AlC coatings deposited by High Velocity Oxy-Fuel spraying FRODELIUS, Jenny ; SONESTEDT, Marie ; BJÖRKLUND, Stefan ; PALMQUIST, Jens-Petter ; STILLER, Krystyna ; HÖGBERG, Hans ; HULTMAN, Lars Surface & coatings technology, 2008-08, Vol.202 (24), p.5976-5981 [Periódico revisado por pares] Amsterdam: Elsevier Texto completo disponível Exibir Online Detalhes Resenhas & Tags Mais Opções Nº de Citações Citações Citado por
7	Material Type: Artigo		Carbide and nanocomposite thin films in the Ti–Pt–C system Lewin, Erik ; Buchholt, Kristina ; Lu, Jun ; Hultman, Lars ; Spetz, Anita Lloyd ; Jansson, Ulf Thin solid films, 2010-07, Vol.518 (18), p.5104-5109 [Periódico revisado por pares] Amsterdam: Elsevier B.V Texto completo disponível Exibir Online Detalhes Resenhas & Tags Mais Opções Nº de Citações Citações Citado por
8	Material Type: Artigo		Dynamic and structural stability of cubic vanadium nitride Mei, A. B. ; Hellman, O. ; Wireklint, N. ; Schlepütz, C. M. ; Sangiovanni, D. G. ; Alling, B. ; Rockett, A. ; Hultman, L. ; Petrov, I. ; Greene, J. E. Physical review. B, Condensed matter and materials physics, 2015-02, Vol.91 (5), p.054101, Article 054101 [Periódico revisado por pares] United States: American Physical Society Texto completo disponível Exibir Online Detalhes Resenhas & Tags Mais Opções Nº de Citações Citações Citado por
9	Material Type: Artigo		Physical properties of epitaxial ZrN/MgO(001) layers grown by reactive magnetron sputtering Mei, A. B. ; Howe, B. M. ; Zhang, C. ; Sardela, M. ; Eckstein, J. N. ; Hultman, L. ; Rockett, A. ; Petrov, I. ; Greene, J. E. Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2013-11, Vol.31 (6), p.061516 [Periódico revisado por pares] United States Texto completo disponível Exibir Online Detalhes Resenhas & Tags Mais Opções Nº de Citações Citações Citado por
10	Material Type: Artigo		M{sub n+1}AX{sub n} phases in the Ti-Si-C system studied by thin-film synthesis and ab initio calculations Palmquist, J.-P. ; Wilhelmsson, O. ; Jansson, U. ; Li, S. ; Katsnelson, M.I. ; Johansson, B. ; Ahuja, R. ; Eriksson, O. ; Persson, P.O.A. ; Emmerlich, J. ; Hoegberg, H. ; Hultman, L. Physical review. B, Condensed matter and materials physics, 2004-10, Vol.70 (16) United States Texto completo disponível Exibir Online Detalhes Resenhas & Tags Mais Opções Nº de Citações Citações Citado por

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