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Role of transverse magnetic field in the capacitive discharge
Role of transverse magnetic field in the capacitive discharge
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Role of transverse magnetic field in the capacitive discharge

You, S.J. ; Hai, T.T. ; Park, M. ; Kim, D.W. ; Kim, J.H. ; Seong, D.J. ; Shin, Y.H. ; Lee, S.H. ; Park, G.Y. ; Lee, J.K. ; Chang, H.Y.

Thin solid films, 2011-08, Vol.519 (20), p.6981-6989 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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2
A structure zone diagram including plasma-based deposition and ion etching
A structure zone diagram including plasma-based deposition and ion etching
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A structure zone diagram including plasma-based deposition and ion etching

Anders, André

Thin solid films, 2010-05, Vol.518 (15), p.4087-4090 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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3
Cold atmospheric plasma: Sources, processes, and applications
Cold atmospheric plasma: Sources, processes, and applications
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Cold atmospheric plasma: Sources, processes, and applications

BARDOS, L ; BARANKOVA, H

Thin solid films, 2010-09, Vol.518 (23), p.6705-6713 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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4
Transparent p-type conducting K-doped NiO films deposited by pulsed plasma deposition
Transparent p-type conducting K-doped NiO films deposited by pulsed plasma deposition
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Transparent p-type conducting K-doped NiO films deposited by pulsed plasma deposition

Yang, Ming ; Pu, Haifeng ; Zhou, Qianfei ; Zhang, Qun

Thin solid films, 2012-07, Vol.520 (18), p.5884-5888 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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5
Synthesis process of gold nanoparticles in solution plasma
Synthesis process of gold nanoparticles in solution plasma
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Synthesis process of gold nanoparticles in solution plasma

Saito, Nagahiro ; Hieda, Junko ; Takai, Osamu

Thin solid films, 2009-12, Vol.518 (3), p.912-917 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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6
Multilayer Al2O3/TiO2 Atomic Layer Deposition coatings for the corrosion protection of stainless steel
Multilayer Al2O3/TiO2 Atomic Layer Deposition coatings for the corrosion protection of stainless steel
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Multilayer Al2O3/TiO2 Atomic Layer Deposition coatings for the corrosion protection of stainless steel

Marin, E. ; Guzman, L. ; Lanzutti, A. ; Ensinger, W. ; Fedrizzi, L.

Thin solid films, 2012-11, Vol.522, p.283-288 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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7
Hexamethyldisiloxane thin films as sensitive coating for quartz crystal microbalance based volatile organic compounds sensors
Hexamethyldisiloxane thin films as sensitive coating for quartz crystal microbalance based volatile organic compounds sensors
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Hexamethyldisiloxane thin films as sensitive coating for quartz crystal microbalance based volatile organic compounds sensors

Boutamine, M. ; Bellel, A. ; Sahli, S. ; Segui, Y. ; Raynaud, P.

Thin solid films, 2014-02, Vol.552, p.196-203 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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8
Control of surface wettability for inkjet printing by combining hydrophobic coating and plasma treatment
Control of surface wettability for inkjet printing by combining hydrophobic coating and plasma treatment
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Control of surface wettability for inkjet printing by combining hydrophobic coating and plasma treatment

Park, Heung Yeol ; Kang, Byung Ju ; Lee, Dohyung ; Oh, Je Hoon

Thin solid films, 2013-11, Vol.546, p.162-166 [Periódico revisado por pares]

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9
IR emission from the target during plasma magnetron sputter deposition
IR emission from the target during plasma magnetron sputter deposition
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IR emission from the target during plasma magnetron sputter deposition

Cormier, P.-A. ; Thomann, A.-L. ; Dolique, V. ; Balhamri, A. ; Dussart, R. ; Semmar, N. ; Lecas, T. ; Brault, P. ; Snyders, R. ; Konstantinidis, S.

Thin solid films, 2013-10, Vol.545, p.44-49 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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10
Large area coating of graphene at low temperature using a roll-to-roll microwave plasma chemical vapor deposition
Large area coating of graphene at low temperature using a roll-to-roll microwave plasma chemical vapor deposition
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Large area coating of graphene at low temperature using a roll-to-roll microwave plasma chemical vapor deposition

Yamada, Takatoshi ; Ishihara, Masatou ; Hasegawa, Masataka

Thin solid films, 2013-04, Vol.532, p.89-93 [Periódico revisado por pares]

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