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Microstructure analysis of c -axis oriented aluminum nitride thin films by high-resolution transmission electron microscopy

Yao, Z. Q. ; Ye, Q. ; Li, Y. Q. ; Zou, Y. S. ; Zhang, W. J. ; Lee, S. T.

Applied Physics Letters, 19 March 2007, Vol.90(12) [Periódico revisado por pares]

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Surface plasmon enhanced ultraviolet emission from ZnO films deposited on Ag ∕ Si ( 001 ) by magnetron sputtering

You, J. B. ; Zhang, X. W. ; Fan, Y. M. ; Qu, S. ; Chen, N. F.

Applied Physics Letters, 03 December 2007, Vol.91(23) [Periódico revisado por pares]

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Formation and luminescent properties of face-centered-cubic Si nanocrystals in silica matrix by magnetron sputtering with substrate bias

Lu, Y. W. ; Du, X. W. ; Sun, J. ; Hu, S. L. ; Han, X. ; Li, H.

Applied Physics Letters, 11 June 2007, Vol.90(24) [Periódico revisado por pares]

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Self-assembled formation of ZnO hexagonal micropyramids with high luminescence efficiency

Kim, Daegwi ; Wakaiki, Shuji ; Komura, Shingo ; Nakayama, Masaaki ; Mori, Yukimasa ; Suzuki, Kazuyo

Applied Physics Letters, 05 March 2007, Vol.90(10) [Periódico revisado por pares]

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Growth and depth dependence of visible luminescence in wurtzite InN epilayers

Pu, X. D. ; Shen, W. Z. ; Zhang, Z. Q. ; Ogawa, H. ; Guo, Q. X.

Applied Physics Letters, 10 April 2006, Vol.88(15) [Periódico revisado por pares]

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Luminescence properties of ZnO layers grown on Si-on-insulator substrates

Kumar, Bhupendra ; Gong, Hao ; Vicknesh, S. ; Chua, S. J. ; Tripathy, S.

Applied Physics Letters, 02 October 2006, Vol.89(14) [Periódico revisado por pares]

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Reducing the impurity incorporation from residual gas by ion bombardment during high vacuum magnetron sputtering

Rosén, Johanna ; Widenkvist, Erika ; Larsson, Karin ; Kreissig, Ulrich ; Mráz, Stanislav ; Martinez, Carlos ; Music, Denis ; Schneider, J. M.

Applied Physics Letters, 08 May 2006, Vol.88(19) [Periódico revisado por pares]

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Ti Al N ∕ Ti Al O N ∕ Si 3 N 4 tandem absorber for high temperature solar selective applications

Barshilia, Harish C. ; Selvakumar, N. ; Rajam, K. S. ; Sridhara Rao, D. V. ; Muraleedharan, K. ; Biswas, A.

Applied Physics Letters, 06 November 2006, Vol.89(19) [Periódico revisado por pares]

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Ge ∕ Hf N x diffusion barrier for Cu metallization on Si

Rawal, S. ; Norton, D. P. ; Kim, Keechan ; Anderson, T. J. ; Mcelwee-White, L.

Applied Physics Letters, 04 December 2006, Vol.89(23) [Periódico revisado por pares]

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Composition and resistivity changes of reactively sputtered W–Si–N thin films under vacuum annealing

Vomiero, A. ; Boscolo Marchi, E. ; Mariotto, G. ; Quaranta, A. ; Della Mea, G. ; Ottaviani, G. ; Tonini, R. ; Butturi, M. ; Martinelli, G.

Applied Physics Letters, 16 January 2006, Vol.88(3) [Periódico revisado por pares]

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