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Control of surface wettability for inkjet printing by combining hydrophobic coating and plasma treatment
Control of surface wettability for inkjet printing by combining hydrophobic coating and plasma treatment
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Control of surface wettability for inkjet printing by combining hydrophobic coating and plasma treatment

Park, Heung Yeol ; Kang, Byung Ju ; Lee, Dohyung ; Oh, Je Hoon

Thin solid films, 2013-11, Vol.546, p.162-166 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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Thin film characterization of zinc tin oxide deposited by thermal atomic layer deposition
Thin film characterization of zinc tin oxide deposited by thermal atomic layer deposition
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Thin film characterization of zinc tin oxide deposited by thermal atomic layer deposition

Mullings, Marja N. ; Hägglund, Carl ; Tanskanen, Jukka T. ; Yee, Yesheng ; Geyer, Scott ; Bent, Stacey F.

Thin Solid Films, 2014-04, Vol.556, p.186-194 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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Multilayer Al2O3/TiO2 Atomic Layer Deposition coatings for the corrosion protection of stainless steel
Multilayer Al2O3/TiO2 Atomic Layer Deposition coatings for the corrosion protection of stainless steel
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Multilayer Al2O3/TiO2 Atomic Layer Deposition coatings for the corrosion protection of stainless steel

Marin, E. ; Guzman, L. ; Lanzutti, A. ; Ensinger, W. ; Fedrizzi, L.

Thin solid films, 2012-11, Vol.522, p.283-288 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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14
Nanostructured plasma polymers
Nanostructured plasma polymers
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Nanostructured plasma polymers

Kylián, O. ; Choukourov, A. ; Biederman, H.

Thin solid films, 2013-12, Vol.548, p.1-17 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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15
Low resistivity amorphous carbon-based thin films employed as anti-reflective coatings on copper
Low resistivity amorphous carbon-based thin films employed as anti-reflective coatings on copper
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Low resistivity amorphous carbon-based thin films employed as anti-reflective coatings on copper

Crespi, Ângela Elisa ; Ballage, Charles ; Hugon, Marie Christine ; Robert, Jacques ; Lundin, Daniel ; Vickridge, Ian ; Alvarez, José ; Minea, Tiberiu

Thin solid films, 2020-10, Vol.712, p.138319, Article 138319 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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Hexamethyldisiloxane thin films as sensitive coating for quartz crystal microbalance based volatile organic compounds sensors
Hexamethyldisiloxane thin films as sensitive coating for quartz crystal microbalance based volatile organic compounds sensors
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Hexamethyldisiloxane thin films as sensitive coating for quartz crystal microbalance based volatile organic compounds sensors

Boutamine, M. ; Bellel, A. ; Sahli, S. ; Segui, Y. ; Raynaud, P.

Thin Solid Films, 2014-02, Vol.552, p.196-203 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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17
Large area coating of graphene at low temperature using a roll-to-roll microwave plasma chemical vapor deposition
Large area coating of graphene at low temperature using a roll-to-roll microwave plasma chemical vapor deposition
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Large area coating of graphene at low temperature using a roll-to-roll microwave plasma chemical vapor deposition

Yamada, Takatoshi ; Ishihara, Masatou ; Hasegawa, Masataka

Thin solid films, 2013-04, Vol.532, p.89-93 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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18
Corrosion behavior of AZ91 magnesium alloy treated by plasma immersion ion implantation and deposition in artificial physiological fluids
Corrosion behavior of AZ91 magnesium alloy treated by plasma immersion ion implantation and deposition in artificial physiological fluids
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Corrosion behavior of AZ91 magnesium alloy treated by plasma immersion ion implantation and deposition in artificial physiological fluids

Liu, Chenglong ; Xin, Yunchang ; Tian, Xiubo ; Chu, Paul K.

Thin solid films, 2007-12, Vol.516 (2), p.422-427 [Periódico revisado por pares]

Lausanne: Elsevier B.V

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19
Characteristics and applications of plasma enhanced-atomic layer deposition
Characteristics and applications of plasma enhanced-atomic layer deposition
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Characteristics and applications of plasma enhanced-atomic layer deposition

Kim, Hyungjun

Thin solid films, 2011-08, Vol.519 (20), p.6639-6644 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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20
IR emission from the target during plasma magnetron sputter deposition
IR emission from the target during plasma magnetron sputter deposition
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

IR emission from the target during plasma magnetron sputter deposition

Cormier, P.-A. ; Thomann, A.-L. ; Dolique, V. ; Balhamri, A. ; Dussart, R. ; Semmar, N. ; Lecas, T. ; Brault, P. ; Snyders, R. ; Konstantinidis, S.

Thin solid films, 2013-10, Vol.545, p.44-49 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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