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Thin film characterization of zinc tin oxide deposited by thermal atomic layer deposition
Thin film characterization of zinc tin oxide deposited by thermal atomic layer deposition
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Thin film characterization of zinc tin oxide deposited by thermal atomic layer deposition

Mullings, Marja N. ; Hägglund, Carl ; Tanskanen, Jukka T. ; Yee, Yesheng ; Geyer, Scott ; Bent, Stacey F.

Thin solid films, 2014-04, Vol.556, p.186-194 [Periódico revisado por pares]

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Nanostructured plasma polymers
Nanostructured plasma polymers
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Nanostructured plasma polymers

Kylián, O. ; Choukourov, A. ; Biederman, H.

Thin solid films, 2013-12, Vol.548, p.1-17 [Periódico revisado por pares]

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Low resistivity amorphous carbon-based thin films employed as anti-reflective coatings on copper
Low resistivity amorphous carbon-based thin films employed as anti-reflective coatings on copper
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Low resistivity amorphous carbon-based thin films employed as anti-reflective coatings on copper

Crespi, Ângela Elisa ; Ballage, Charles ; Hugon, Marie Christine ; Robert, Jacques ; Lundin, Daniel ; Vickridge, Ian ; Alvarez, José ; Minea, Tiberiu

Thin solid films, 2020-10, Vol.712, p.138319, Article 138319 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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Multilayer Al2O3/TiO2 Atomic Layer Deposition coatings for the corrosion protection of stainless steel
Multilayer Al2O3/TiO2 Atomic Layer Deposition coatings for the corrosion protection of stainless steel
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Multilayer Al2O3/TiO2 Atomic Layer Deposition coatings for the corrosion protection of stainless steel

Marin, E. ; Guzman, L. ; Lanzutti, A. ; Ensinger, W. ; Fedrizzi, L.

Thin solid films, 2012-11, Vol.522, p.283-288 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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Hexamethyldisiloxane thin films as sensitive coating for quartz crystal microbalance based volatile organic compounds sensors
Hexamethyldisiloxane thin films as sensitive coating for quartz crystal microbalance based volatile organic compounds sensors
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Hexamethyldisiloxane thin films as sensitive coating for quartz crystal microbalance based volatile organic compounds sensors

Boutamine, M. ; Bellel, A. ; Sahli, S. ; Segui, Y. ; Raynaud, P.

Thin solid films, 2014-02, Vol.552, p.196-203 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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16
Control of surface wettability for inkjet printing by combining hydrophobic coating and plasma treatment
Control of surface wettability for inkjet printing by combining hydrophobic coating and plasma treatment
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Control of surface wettability for inkjet printing by combining hydrophobic coating and plasma treatment

Park, Heung Yeol ; Kang, Byung Ju ; Lee, Dohyung ; Oh, Je Hoon

Thin solid films, 2013-11, Vol.546, p.162-166 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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IR emission from the target during plasma magnetron sputter deposition
IR emission from the target during plasma magnetron sputter deposition
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IR emission from the target during plasma magnetron sputter deposition

Cormier, P.-A. ; Thomann, A.-L. ; Dolique, V. ; Balhamri, A. ; Dussart, R. ; Semmar, N. ; Lecas, T. ; Brault, P. ; Snyders, R. ; Konstantinidis, S.

Thin solid films, 2013-10, Vol.545, p.44-49 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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Large area coating of graphene at low temperature using a roll-to-roll microwave plasma chemical vapor deposition
Large area coating of graphene at low temperature using a roll-to-roll microwave plasma chemical vapor deposition
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Large area coating of graphene at low temperature using a roll-to-roll microwave plasma chemical vapor deposition

Yamada, Takatoshi ; Ishihara, Masatou ; Hasegawa, Masataka

Thin solid films, 2013-04, Vol.532, p.89-93 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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19
Characteristics and applications of plasma enhanced-atomic layer deposition
Characteristics and applications of plasma enhanced-atomic layer deposition
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Characteristics and applications of plasma enhanced-atomic layer deposition

Kim, Hyungjun

Thin solid films, 2011-08, Vol.519 (20), p.6639-6644 [Periódico revisado por pares]

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20
Characterizations of thermal stability and electrical performance of Au-Ni coating on CuCrZr substrate for high vacuum radio-frequency contact application
Characterizations of thermal stability and electrical performance of Au-Ni coating on CuCrZr substrate for high vacuum radio-frequency contact application
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Characterizations of thermal stability and electrical performance of Au-Ni coating on CuCrZr substrate for high vacuum radio-frequency contact application

Chen, Z.X. ; Hillairet, J. ; Turq, V. ; Song, Y.T. ; Laloo, R. ; Bernard, J.M. ; Vulliez, K. ; Lombard, G. ; Hernandez, C. ; Yang, Q.X. ; Ferreira, L. ; Fesquet, F. ; Mollard, P. ; Volpe, R.

Thin solid films, 2018-08, Vol.659, p.81-88 [Periódico revisado por pares]

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