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Sputter deposition from a Ti2AlC target: Process characterization and conditions for growth of Ti2AlC
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Sputter deposition from a Ti2AlC target: Process characterization and conditions for growth of Ti2AlC

Frodelius, J. ; Eklund, P. ; Beckers, M. ; Persson, P.O.Å. ; Högberg, H. ; Hultman, L.

Thin Solid Films, 1/2010, Vol.518(6), pp.1621-1626 [Periódico revisado por pares]

Elsevier (via CrossRef)

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Sputter deposition from a Ti 2AlC target: Process characterization and conditions for growth of Ti 2AlC

Frodelius, J ; Eklund, P ; Beckers, M ; Persson, P.O.Å ; Högberg, H ; Hultman, L

Thin Solid Films, 2010, Vol.518(6), pp.1621-1626 [Periódico revisado por pares]

ScienceDirect Journals (Elsevier)

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Sputter deposition from a Ti2AlC target: Process characterization and conditions for growth of Ti2AlC

Frodelius, Jenny ; Eklund, Per ; Beckers, Manfred ; Persson, Per ; Högberg, Hans ; Hultman, Lars

Thin Solid Films, 2010, Vol.518(6), pp.1621-1626 [Periódico revisado por pares]

SwePub (National Library of Sweden)

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