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Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas
Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas
Material Type:
Relatório Técnico 		Adicionar ao Meu Espaço

Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas

Ronaldo Domingues Mansano 1964- Patrick Bernard Verdonck 1958-; Homero Santiago Maciel

São Paulo EPUSP 1998

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2
Characteristic of silicon etching process in a RIE reactor modified to include a built-in radio frequency excitation coil. (em CD-Rom)
Characteristic of silicon etching process in a RIE reactor modified to include a built-in radio frequency excitation coil. (em CD-Rom)
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Characteristic of silicon etching process in a RIE reactor modified to include a built-in radio frequency excitation coil. (em CD-Rom)

Marcos Massi Ronaldo Domingues Mansano 1964-; Homero Santiago Maciel; Patrick Bernard Verdonck 1958-; Conference of the Brazilian Microelectronics Society (12. 1997 Caxambu)

Proceedings Itajubá : SBMICRO/EFEI, 1997

Itajubá SBMICRO/EFEI 1997

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3
Study of of the influence of the secondary electron emission coefficient in radio-frequency argonplasmas using particle in cell simulation
Study of of the influence of the secondary electron emission coefficient in radio-frequency argonplasmas using particle in cell simulation
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Study of of the influence of the secondary electron emission coefficient in radio-frequency argonplasmas using particle in cell simulation

Elias Rodrigues Cizzoto Marisa Roberto; Patrick Bernard Verdonck 1958-; Homero Santiago Maciel; International Symposium on Microelectronics Technology and Devices - SBMICRO (18. 2003 São Paulo)

Proceedings. Pennington : The Electrochemical Society, 2003

Pennington The Electrochemical Society 2003

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4
Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering
Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering
Material Type:
Relatório Técnico 		Adicionar ao Meu Espaço

Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering

Marcos Massi Ronaldo Domingues Mansano 1964-; Homero Santiago Maciel; C Otani; Patrick Bernard Verdonck 1958-; L. N. B. M Nishioka

São Paulo EPUSP 1999

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5
Silicon surface roughness induced by reactive ion etching processes, using a graphite electrode. (Em CD-Rom)
Silicon surface roughness induced by reactive ion etching processes, using a graphite electrode. (Em CD-Rom)
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Silicon surface roughness induced by reactive ion etching processes, using a graphite electrode. (Em CD-Rom)

Patrick Bernard Verdonck 1958- Ronaldo Domingues Mansano 1964-; Homero Santiago Maciel; Conference of the Brazilian Microelectronics Society (12. 1997 Caxambu)

Proceedings Itajubá : SBMICRO/EFEI, 1997

Itajubá SBMICRO/EFEI 1997

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6
Silicon wall profiles generated by isotropic dry etching process
Silicon wall profiles generated by isotropic dry etching process
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Silicon wall profiles generated by isotropic dry etching process

Ronaldo Domingues Mansano 1964- Patrick Bernard Verdonck 1958-; Homero Santiago Maciel; International Colloquium on Plasma Processes (11. 1997 Le Mans)

CIP'97 : proceedings Paris : Sociéte Française du Vide, 1997

Paris Société Française du Vide 1997

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7
Deposição e corrosão de filmes de carbono tipo diamante através de técnicas assistidas por plasma
Deposição e corrosão de filmes de carbono tipo diamante através de técnicas assistidas por plasma
Material Type:
Tese de Doutorado 		Adicionar ao Meu Espaço

Deposição e corrosão de filmes de carbono tipo diamante através de técnicas assistidas por plasma

Marcos Massi Homero Santiago Maciel; Patrick Bernard Verdonck 1958-

1999

Localização: EPBC - Esc. Politécnica-Bib Central    (FT-1318 ) e outros locais(Acessar)

8
Comparison between single and double Langmuir probe tecniques for analysis of inductively coupled plasmas
Comparison between single and double Langmuir probe tecniques for analysis of inductively coupled plasmas
Material Type:
Relatório Técnico 		Adicionar ao Meu Espaço

Comparison between single and double Langmuir probe tecniques for analysis of inductively coupled plasmas

Giuseppe Antonio Cirino Patrick Bernard Verdonck 1958-; Homero Santiago Maciel; R M Castro; Marcos Massi; M B Pisani; Ronaldo Domingues Mansano 1964-

São Paulo EPUSP 1998

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9
Characterization of mode transitions for RF discharges in different gases
Characterization of mode transitions for RF discharges in different gases
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Characterization of mode transitions for RF discharges in different gases

Bruno da Silva Rodrigues Patrick Bernard Verdonck 1958-; Homero Santiago Maciel; Ronaldo Domingues Mansano 1964-; International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO (20. 2005 Florianópolis)

Proceedings v. 2005-08. Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2005 Pennington : The Electrochemical Society, 2005

Pennington The Electrochemical Society 2005

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10
Influence of methane addition on the characteristics of magnetron sputtered hydrogenated carbon films
Influence of methane addition on the characteristics of magnetron sputtered hydrogenated carbon films
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Influence of methane addition on the characteristics of magnetron sputtered hydrogenated carbon films

Ronaldo Domingues Mansano 1964- Paula Maria Nogueira; Luís da Silva Zambom; Patrick Bernard Verdonck 1958-; Marcos Massi; Homero Santiago Maciel; International Conference on Microelectronics and Packaging (14. 1999 Campinas)

ICMP 99: technical digest São Paulo : SBMicro/IMAPS, 1999

São Paulo SBMicro/IMAPS 1999

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Deste Autor:

  1. Verdonck, P
  2. Maciel, H
  3. Mansano, R
  4. Massi, M
  5. Otani, C

Neste Assunto:

  1. Circuitos Integrados
  2. Filmes Finos
  3. Engenharia Elétrica
  4. Semicondutores
  5. Filmes

  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

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