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Intense xenon capillary discharge extreme-ultraviolet source in the 10-16-nm-wavelength region
Intense xenon capillary discharge extreme-ultraviolet source in the 10-16-nm-wavelength region
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Intense xenon capillary discharge extreme-ultraviolet source in the 10-16-nm-wavelength region

Klosner, M A ; Silfvast, W T

Optics letters, 1998-10, Vol.23 (20), p.1609 [Periódico revisado por pares]

United States

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2
Xenon-emission-spectra identification in the 5–20-nm spectral region in highly ionized xenon capillary-discharge plasmas
Xenon-emission-spectra identification in the 5–20-nm spectral region in highly ionized xenon capillary-discharge plasmas
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Xenon-emission-spectra identification in the 5–20-nm spectral region in highly ionized xenon capillary-discharge plasmas

Klosner, M. A. ; Silfvast, W. T.

Journal of the Optical Society of America. B, Optical physics, 2000-07, Vol.17 (7), p.1279 [Periódico revisado por pares]

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3
Intense plasma discharge source at 13.5 nm for extreme-ultraviolet lithography
Intense plasma discharge source at 13.5 nm for extreme-ultraviolet lithography
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Intense plasma discharge source at 13.5 nm for extreme-ultraviolet lithography

Klosner, M A ; Bender, H A ; Silfvast, W T ; Rocca, J J

Optics letters, 1997-01, Vol.22 (1), p.34 [Periódico revisado por pares]

United States

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4
Velocity characterization of particulate debris from laser-produced plasmas used for extreme-ultraviolet lithography
Velocity characterization of particulate debris from laser-produced plasmas used for extreme-ultraviolet lithography
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Velocity characterization of particulate debris from laser-produced plasmas used for extreme-ultraviolet lithography

Bender, H A ; O'Connell, D ; Silfvast, W T

Applied Optics, 1995-10, Vol.34 (28), p.6513 [Periódico revisado por pares]

United States

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5
Photoionization lasers pumped by broadband soft-x-ray flux from laser-produced plasmas
Photoionization lasers pumped by broadband soft-x-ray flux from laser-produced plasmas
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Photoionization lasers pumped by broadband soft-x-ray flux from laser-produced plasmas

Silfvast, W. T. ; Wood, O. R.

J. Opt. Soc. Am. B: Opt. Phys.; (United States), 1987-04, Vol.4 (4), p.609 [Periódico revisado por pares]

United States

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6
Characterization and control of laser plasma flux parameters for soft-x-ray projection lithography
Characterization and control of laser plasma flux parameters for soft-x-ray projection lithography
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Characterization and control of laser plasma flux parameters for soft-x-ray projection lithography

Richardson, M ; Silfvast, W T ; Bender, H A ; Hanzo, A ; Yanovsky, V P ; Jin, F ; Thorpe, J

Applied Optics, 1993-12, Vol.32 (34), p.6901 [Periódico revisado por pares]

United States

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7
Effect of laser pulse duration on short wavelength emission from femtosecond and picosecond laser-produced Ta plasmas
Effect of laser pulse duration on short wavelength emission from femtosecond and picosecond laser-produced Ta plasmas
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Effect of laser pulse duration on short wavelength emission from femtosecond and picosecond laser-produced Ta plasmas

WOOD, O. R. II ; SILFVAST, W. T ; TOM, H. W. K ; KNOX, W. H ; FORK, R. L ; BRITO-CRUZ, C. H ; DOWNER, M. C ; MALONEY, P. J

Applied physics letters, 1988-08, Vol.53 (8), p.654-656 [Periódico revisado por pares]

Melville, NY: American Institute of Physics

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8
High-power plasma discharge source at 13.5 nm and 11.4 nm for EUV lithography
High-power plasma discharge source at 13.5 nm and 11.4 nm for EUV lithography
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Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

High-power plasma discharge source at 13.5 nm and 11.4 nm for EUV lithography

Silfvast, William T ; Klosner, M ; Shimkaveg, Gregory M ; Bender, Howard ; Kubiak, Glenn D ; Fornaciari, Neal R

SPIE proceedings series, 1999, Vol.3676, p.272-275

Bellingham WA: SPIE

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9
Intense EUV incoherent plasma sources for EUV lithography and other applications
Intense EUV incoherent plasma sources for EUV lithography and other applications
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Intense EUV incoherent plasma sources for EUV lithography and other applications

Silfvast, W.T.

IEEE journal of quantum electronics, 1999-05, Vol.35 (5), p.700-708 [Periódico revisado por pares]

IEEE

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10
Investigation of distortion and damage of molybdenum†silicon multilayer reflective coatings with high-intensity ultraviolet radiation
Investigation of distortion and damage of molybdenum†silicon multilayer reflective coatings with high-intensity ultraviolet radiation
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Investigation of distortion and damage of molybdenum†silicon multilayer reflective coatings with high-intensity ultraviolet radiation

Bender, H A ; Silfvast, W T ; Beck, K M ; Singh, R K

Applied Optics, 1993-12, Vol.32 (34), p.6999 [Periódico revisado por pares]

United States

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