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Refinado por: Nome da Publicação: Applied Physics Letters remover
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1
Noninvasive method to measure the electron temperature in radio frequency capacitively coupled plasmas
Noninvasive method to measure the electron temperature in radio frequency capacitively coupled plasmas
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Noninvasive method to measure the electron temperature in radio frequency capacitively coupled plasmas

Lee, Hyo-Chang ; Chung, C.-W. ; Lee, M. H. ; Kim, J. H.

Applied physics letters, 2021-05, Vol.118 (20) [Periódico revisado por pares]

Melville: American Institute of Physics

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2
Evolution of electron temperature in inductively coupled plasma
Evolution of electron temperature in inductively coupled plasma
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Evolution of electron temperature in inductively coupled plasma

Lee, Hyo-Chang ; Seo, B. H. ; Kwon, Deuk-Chul ; Kim, J. H. ; Seong, D. J. ; Oh, S. J. ; Chung, C.-W. ; You, K. H. ; Shin, ChaeHo

Applied physics letters, 2017-01, Vol.110 (1) [Periódico revisado por pares]

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3
Feature of electron energy distribution in a low-pressure capacitive discharge
Feature of electron energy distribution in a low-pressure capacitive discharge
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Feature of electron energy distribution in a low-pressure capacitive discharge

You, S. J. ; Chung, C. W. ; Chang, H. Y.

Applied physics letters, 2005-07, Vol.87 (4) [Periódico revisado por pares]

United States

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4
Power dissipation mode transition by a magnetic field
Power dissipation mode transition by a magnetic field
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Power dissipation mode transition by a magnetic field

You, S. J. ; Chung, C. W. ; Bai, K. H. ; Chang, H. Y.

Applied physics letters, 2002-09, Vol.81 (14), p.2529-2531 [Periódico revisado por pares]

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5
Reactive cluster beam etching of fine patterns
Reactive cluster beam etching of fine patterns
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Reactive cluster beam etching of fine patterns

CHUNG, C. W ; BROCK, J. R ; TRACHTENBERG, I

Applied physics letters, 1993-12, Vol.63 (24), p.3341-3343 [Periódico revisado por pares]

Melville, NY: American Institute of Physics

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6
Role of hydrogen in evolution of plasma parameters and dust growthin capacitively coupled dusty plasmas
Role of hydrogen in evolution of plasma parameters and dust growthin capacitively coupled dusty plasmas
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Role of hydrogen in evolution of plasma parameters and dust growthin capacitively coupled dusty plasmas

Chai, K B ; Choe, Wonho ; Seon, C R ; Chung, C W

Applied physics letters, 2010-11, Vol.97 (20), p.201503-201503-3 [Periódico revisado por pares]

American Institute of Physics

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7
Role of hydrogen in evolution of plasma parameters and dust growth in capacitively coupled dusty plasmas
Role of hydrogen in evolution of plasma parameters and dust growth in capacitively coupled dusty plasmas
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Role of hydrogen in evolution of plasma parameters and dust growth in capacitively coupled dusty plasmas

Chai, K. B. ; Choe, Wonho ; Seon, C. R. ; Chung, C. W.

Applied physics letters, 2010-11, Vol.97 (20) [Periódico revisado por pares]

United States

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8
Feature of electron energy distribution in a low-pressurecapacitive discharge
Feature of electron energy distribution in a low-pressurecapacitive discharge
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Feature of electron energy distribution in a low-pressurecapacitive discharge

You, S J ; Chung, C W ; Chang, H Y

Applied physics letters, 2005-07, Vol.87 (4), p.041501-041501-3 [Periódico revisado por pares]

American Institute of Physics

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9
Laser pulse induced gold nanoparticle gratings
Laser pulse induced gold nanoparticle gratings
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Laser pulse induced gold nanoparticle gratings

Hung, Wen-Chi ; Cheng, Wood-Hi ; Tsai, Ming-Shan ; Chung, Wei-Chih ; Jiang, I-Min ; Yeh, Pochi

Applied physics letters, 2008-08, Vol.93 (6), p.061109-061109-3 [Periódico revisado por pares]

United States: American Institute of Physics

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10
Effect of multistep ionizations on the electron temperature in an argon inductively coupled plasma
Effect of multistep ionizations on the electron temperature in an argon inductively coupled plasma
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Effect of multistep ionizations on the electron temperature in an argon inductively coupled plasma

Lee, Min-Hyong ; Chung, Chin-Wook

Applied physics letters, 2005-09, Vol.87 (13), p.131502-131502-3 [Periódico revisado por pares]

United States: American Institute of Physics

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