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Refinado por: Base de dados/Biblioteca: Elsevier ScienceDirect Journals remover Nome da Publicação: Microelectronics And Reliability remover
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Bias-temperature stress of Al on porous low- k dielectrics
Bias-temperature stress of Al on porous low- k dielectrics
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Bias-temperature stress of Al on porous low- k dielectrics

He, Ming ; Li, Huafang ; Wang, Pei-I ; Lu, Toh-Ming

Microelectronics and reliability, 2011-08, Vol.51 (8), p.1342-1345 [Periódico revisado por pares]

Kidlington: Elsevier Ltd

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STI process steps for sub-quarter micron CMOS
STI process steps for sub-quarter micron CMOS
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STI process steps for sub-quarter micron CMOS

Sallagoity, P ; Gaillard, F ; Rivoire, M ; Paoli, M ; Haond, M ; McClathie, S

Microelectronics and reliability, 1998-02, Vol.38 (2), p.271-276 [Periódico revisado por pares]

Oxford: Elsevier Ltd

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