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Harmonia mundi musica e filosofia nell'antichità = music and philosophy in the ancient world
Harmonia mundi musica e filosofia nell'antichità = music and philosophy in the ancient world
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Harmonia mundi musica e filosofia nell'antichità = music and philosophy in the ancient world

Frederick M Ahl; Bonnie MacLachlan; Robert W Wallace

Roma Edizioni dell'Ateneo 1991

Localização: FFLCH - Fac. Fil. Let. e Ciências Humanas    (780.1 H288 )(Acessar)

2
Atomic Layer Deposition of Al2O3 on WSe2 Functionalized by Titanyl Phthalocyanine
Atomic Layer Deposition of Al2O3 on WSe2 Functionalized by Titanyl Phthalocyanine
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Atomic Layer Deposition of Al2O3 on WSe2 Functionalized by Titanyl Phthalocyanine

Park, Jun Hong ; Fathipour, Sara ; Kwak, Iljo ; Sardashti, Kasra ; Ahles, Christopher F ; Wolf, Steven F ; Edmonds, Mary ; Vishwanath, Suresh ; Xing, Huili Grace ; Fullerton-Shirey, Susan K ; Seabaugh, Alan ; Kummel, Andrew C

ACS nano, 2016-07, Vol.10 (7), p.6888-6896 [Periódico revisado por pares]

United States: American Chemical Society

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3
Synthesis and Biological Evaluation of Dimeric Furanoid Macroheterocycles: Discovery of New Anticancer Agents
Synthesis and Biological Evaluation of Dimeric Furanoid Macroheterocycles: Discovery of New Anticancer Agents
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Synthesis and Biological Evaluation of Dimeric Furanoid Macroheterocycles: Discovery of New Anticancer Agents

Nicolaou, K. C ; Nilewski, Christian ; Hale, Christopher R. H ; Ahles, Christopher F ; Chiu, Chiao An ; Ebner, Christian ; ElMarrouni, Abdelatif ; Yang, Lifeng ; Stiles, Katherine ; Nagrath, Deepak

Journal of the American Chemical Society, 2015-04, Vol.137 (14), p.4766-4770 [Periódico revisado por pares]

United States: American Chemical Society

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4
Selective Etching of Silicon in Preference to Germanium and Si0.5Ge0.5
Selective Etching of Silicon in Preference to Germanium and Si0.5Ge0.5
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Selective Etching of Silicon in Preference to Germanium and Si0.5Ge0.5

Ahles, Christopher F ; Choi, Jong Youn ; Wolf, Steven ; Kummel, Andrew C

ACS applied materials & interfaces, 2017-06, Vol.9 (24), p.20947-20954 [Periódico revisado por pares]

American Chemical Society

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5
Selective Etching of Silicon in Preference to Germanium and Si 0.5 Ge 0.5
Selective Etching of Silicon in Preference to Germanium and Si 0.5 Ge 0.5
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Selective Etching of Silicon in Preference to Germanium and Si 0.5 Ge 0.5

Ahles, Christopher F ; Choi, Jong Youn ; Wolf, Steven ; Kummel, Andrew C

ACS applied materials & interfaces, 2017-06, Vol.9 (24), p.20947-20954 [Periódico revisado por pares]

United States

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6
Inherently Selective Water-Free Deposition of Titanium Dioxide on the Nanoscale: Implications for Nanoscale Patterning
Inherently Selective Water-Free Deposition of Titanium Dioxide on the Nanoscale: Implications for Nanoscale Patterning
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Inherently Selective Water-Free Deposition of Titanium Dioxide on the Nanoscale: Implications for Nanoscale Patterning

Cho, Yunil ; Ahles, Christopher F ; Choi, Jong Youn ; Huang, James ; Jan, Antony ; Wong, Keith ; Nemani, Srinivas ; Yieh, Ellie ; Kummel, Andrew C

ACS applied nano materials, 2022-01, Vol.5 (1), p.476-485 [Periódico revisado por pares]

American Chemical Society

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7
Synthesis of Macroheterocycles through Intramolecular Oxidative Coupling of Furanoid β-Ketoesters
Synthesis of Macroheterocycles through Intramolecular Oxidative Coupling of Furanoid β-Ketoesters
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Synthesis of Macroheterocycles through Intramolecular Oxidative Coupling of Furanoid β-Ketoesters

Nicolaou, K. C. ; Hale, Christopher R. H. ; Ebner, Christian ; Nilewski, Christian ; Ahles, Christopher F. ; Rhoades, Derek

Angewandte Chemie (International ed.), 2012-05, Vol.51 (19), p.4726-4730 [Periódico revisado por pares]

Weinheim: WILEY-VCH Verlag

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8
Inherent selective pulsed chemical vapor deposition of amorphous hafnium oxide / titanium oxide nanolaminates
Inherent selective pulsed chemical vapor deposition of amorphous hafnium oxide / titanium oxide nanolaminates
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Inherent selective pulsed chemical vapor deposition of amorphous hafnium oxide / titanium oxide nanolaminates

Cho, Yunil ; Huang, James ; Ahles, Christopher F. ; Zhang, Zichen ; Wong, Keith ; Nemani, Srinivas ; Yieh, Ellie ; Kummel, Andrew C.

Applied surface science, 2022-10, Vol.600, p.154010, Article 154010 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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9
Highly selective atomic layer deposition of MoSiOx using inherently substrate-dependent processes
Highly selective atomic layer deposition of MoSiOx using inherently substrate-dependent processes
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Highly selective atomic layer deposition of MoSiOx using inherently substrate-dependent processes

Choi, Jong Youn ; Ahles, Christopher F. ; Wong, Keith T. ; Nemani, Srinivas ; Yieh, Ellie ; Kummel, Andrew C.

Applied surface science, 2020-05, Vol.512, p.144307, Article 144307 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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10
Selective atomic layer deposition of MoSix on Si (0 0 1) in preference to silicon nitride and silicon oxide
Selective atomic layer deposition of MoSix on Si (0 0 1) in preference to silicon nitride and silicon oxide
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Selective atomic layer deposition of MoSix on Si (0 0 1) in preference to silicon nitride and silicon oxide

Choi, Jong Youn ; Ahles, Christopher F. ; Hung, Raymond ; Kim, Namsung ; Kummel, Andrew C.

Applied surface science, 2018-12, Vol.462, p.1008-1016 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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  1. Wallace, R  (1)
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  1. Wallace, R
  2. Ahl, F
  3. MacLachlan, B

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  1. Hep-Ex
  2. Nuclear & Particles Physics
  3. Particle And Plasma Physics
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