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1
Wide gap a-Si1-xCx: H thin films obtained under starving plasma deposition conditions
Wide gap a-Si1-xCx: H thin films obtained under starving plasma deposition conditions
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Wide gap a-Si1-xCx: H thin films obtained under starving plasma deposition conditions

PEREYRA, I ; CARRENO, M. N. P

Journal of non-crystalline solids, 1996-06, Vol.201 (1-2), p.110-118 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier

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2
Microvoids in diamond-like amorphous silicon carbide
Microvoids in diamond-like amorphous silicon carbide
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Microvoids in diamond-like amorphous silicon carbide

Carreño, M. N. P. ; Pereyra, I. ; Fantini, M. C. A. ; Takahashi, H. ; Landers, R.

Journal of applied physics, 1994-01, Vol.75 (1), p.538-542 [Periódico revisado por pares]

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3
Evidence of quantum size effects in a-Si:H/a-SiCx:H superlattices. Observation of negative resistance in double barrier structures
Evidence of quantum size effects in a-Si:H/a-SiCx:H superlattices. Observation of negative resistance in double barrier structures
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Evidence of quantum size effects in a-Si:H/a-SiCx:H superlattices. Observation of negative resistance in double barrier structures

Pereyra, I. ; Carreno, M.N.P. ; Onmori, R.K. ; Sassaki, C.A. ; Andrade, A.M. ; Alvarez, F.

Journal of non-crystalline solids, 1987-12, Vol.97, p.871-874 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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4
Negative conductance and sequential tunneling in amorphous silicon-silicon carbide double barrier devices
Negative conductance and sequential tunneling in amorphous silicon-silicon carbide double barrier devices
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Negative conductance and sequential tunneling in amorphous silicon-silicon carbide double barrier devices

Pereyra, I ; Carreño, M.P ; Alvarez, F

Journal of non-crystalline solids, 1989, Vol.110 (2), p.175-178 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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5
Negative resistance in a-SiCx:H double barrier devices — frequency dependence
Negative resistance in a-SiCx:H double barrier devices — frequency dependence
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Negative resistance in a-SiCx:H double barrier devices — frequency dependence

Carreño, M.N.P. ; Pereyra, I. ; Komazawa, A. ; Arasaki, A.T.

Journal of non-crystalline solids, 1989-12, Vol.114, p.762-764 [Periódico revisado por pares]

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6
Integral thin film technology amorphous silicon image sensor
Integral thin film technology amorphous silicon image sensor
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Integral thin film technology amorphous silicon image sensor

Sassaki, C.A. ; Arasaki, A.T. ; Carreño, M.P. ; Komazawa, A. ; Pereyra, I.

Journal of non-crystalline solids, 1989-12, Vol.115 (1), p.90-92 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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7
Highly uniform large-area a-Si:H films
Highly uniform large-area a-Si:H films
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Highly uniform large-area a-Si:H films

Sanematsu, M.S. ; Pereyra, I. ; Andrade, A.M. ; Martins, R.F.P.

Solar cells, 1985-01, Vol.14 (3), p.281-287

Elsevier B.V

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8
Neutrophil infiltration as an important factor in liver ischemia and reperfusion injury : modulating effects of FK506 and cyclosporine
Neutrophil infiltration as an important factor in liver ischemia and reperfusion injury : modulating effects of FK506 and cyclosporine
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Neutrophil infiltration as an important factor in liver ischemia and reperfusion injury : modulating effects of FK506 and cyclosporine

SUZUKI, S ; TOLEDO-PEREYRA, S. H ; RODRIGUEZ, F. J ; CEJALVO, D

Transplantation, 1993-06, Vol.55 (6), p.1265-1272 [Periódico revisado por pares]

Hagerstown, MD: Lippincott

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9
2-POINT RAY TRACING IN GENERAL 3D MEDIA
2-POINT RAY TRACING IN GENERAL 3D MEDIA
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2-POINT RAY TRACING IN GENERAL 3D MEDIA

PEREYRA

GEOPHYSICAL PROSPECTING, 1992-04, Vol.40 (3), p.267-287 [Periódico revisado por pares]

OXFORD: Wiley

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10
Interleukin 1 and Tumor Necrosis Factor Production as the Initial Stimulants of Liver Ischemia and Reperfusion Injury
Interleukin 1 and Tumor Necrosis Factor Production as the Initial Stimulants of Liver Ischemia and Reperfusion Injury
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Interleukin 1 and Tumor Necrosis Factor Production as the Initial Stimulants of Liver Ischemia and Reperfusion Injury

Suzuki, Shohachi ; Toledo-Pereyra, Luis H.

The Journal of surgical research, 1994-08, Vol.57 (2), p.253-258 [Periódico revisado por pares]

New York, NY: Elsevier Inc

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