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1
Desenvolvimento de um gerador de microplasma utilizando a tecnologia LTCC.
Desenvolvimento de um gerador de microplasma utilizando a tecnologia LTCC.
Material Type:
Tese de Doutorado 		Adicionar ao Meu Espaço

Desenvolvimento de um gerador de microplasma utilizando a tecnologia LTCC.

Yamamoto, Roberto Katsuhiro

Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP; Universidade de São Paulo; Escola Politécnica 2008-05-16

Acesso online. A biblioteca também possui exemplares impressos.

2
Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas
Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas
Material Type:
Relatório Técnico 		Adicionar ao Meu Espaço

Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas

Ronaldo Domingues Mansano 1964- Patrick Bernard Verdonck 1958-; Homero Santiago Maciel

São Paulo EPUSP 1998

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3
Estudos sobre um jato de plasma para corrosão de materiais eletrônicos em alto vácuo
Estudos sobre um jato de plasma para corrosão de materiais eletrônicos em alto vácuo
Material Type:
Tese de Doutorado 		Adicionar ao Meu Espaço

Estudos sobre um jato de plasma para corrosão de materiais eletrônicos em alto vácuo

Paulo Eduardo Lima Homero Santiago Maciel

2004

Localização: EPBC - Esc. Politécnica-Bib Central    (FT-1993 ) e outros locais(Acessar)

4
Estudo e caracterizacao da corrosao de silicio com plasma de cbrf3 e medidas de propriedades do plasma com sondas de langmuir
Estudo e caracterizacao da corrosao de silicio com plasma de cbrf3 e medidas de propriedades do plasma com sondas de langmuir
Material Type:
Dissertação de Mestrado 		Adicionar ao Meu Espaço

Estudo e caracterizacao da corrosao de silicio com plasma de cbrf3 e medidas de propriedades do plasma com sondas de langmuir

Roberto Katsuhiro Yamamoto Homero Santiago Maciel

1992

Localização: EPBC - Esc. Politécnica-Bib Central    (FD-1393 ) e outros locais(Acessar)

5
Desenvolvimento de um processo litografico para microeletronica
Desenvolvimento de um processo litografico para microeletronica
Material Type:
Dissertação de Mestrado 		Adicionar ao Meu Espaço

Desenvolvimento de um processo litografico para microeletronica

Nelson Takashi Yunaka Homero Santiago Maciel

1995

Localização: EPBC - Esc. Politécnica-Bib Central    (FD-1768 ) e outros locais(Acessar)

6
Characteristic of silicon etching process in a RIE reactor modified to include a built-in radio frequency excitation coil. (em CD-Rom)
Characteristic of silicon etching process in a RIE reactor modified to include a built-in radio frequency excitation coil. (em CD-Rom)
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Characteristic of silicon etching process in a RIE reactor modified to include a built-in radio frequency excitation coil. (em CD-Rom)

Marcos Massi Ronaldo Domingues Mansano 1964-; Homero Santiago Maciel; Patrick Bernard Verdonck 1958-; Conference of the Brazilian Microelectronics Society (12. 1997 Caxambu)

Proceedings Itajubá : SBMICRO/EFEI, 1997

Itajubá SBMICRO/EFEI 1997

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7
Study of of the influence of the secondary electron emission coefficient in radio-frequency argonplasmas using particle in cell simulation
Study of of the influence of the secondary electron emission coefficient in radio-frequency argonplasmas using particle in cell simulation
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Study of of the influence of the secondary electron emission coefficient in radio-frequency argonplasmas using particle in cell simulation

Elias Rodrigues Cizzoto Marisa Roberto; Patrick Bernard Verdonck 1958-; Homero Santiago Maciel; International Symposium on Microelectronics Technology and Devices - SBMICRO (18. 2003 São Paulo)

Proceedings. Pennington : The Electrochemical Society, 2003

Pennington The Electrochemical Society 2003

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8
Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering
Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering
Material Type:
Relatório Técnico 		Adicionar ao Meu Espaço

Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering

Marcos Massi Ronaldo Domingues Mansano 1964-; Homero Santiago Maciel; C Otani; Patrick Bernard Verdonck 1958-; L. N. B. M Nishioka

São Paulo EPUSP 1999

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9
Silicon surface roughness induced by reactive ion etching processes, using a graphite electrode. (Em CD-Rom)
Silicon surface roughness induced by reactive ion etching processes, using a graphite electrode. (Em CD-Rom)
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Silicon surface roughness induced by reactive ion etching processes, using a graphite electrode. (Em CD-Rom)

Patrick Bernard Verdonck 1958- Ronaldo Domingues Mansano 1964-; Homero Santiago Maciel; Conference of the Brazilian Microelectronics Society (12. 1997 Caxambu)

Proceedings Itajubá : SBMICRO/EFEI, 1997

Itajubá SBMICRO/EFEI 1997

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10
Silicon wall profiles generated by isotropic dry etching process
Silicon wall profiles generated by isotropic dry etching process
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Silicon wall profiles generated by isotropic dry etching process

Ronaldo Domingues Mansano 1964- Patrick Bernard Verdonck 1958-; Homero Santiago Maciel; International Colloquium on Plasma Processes (11. 1997 Le Mans)

CIP'97 : proceedings Paris : Sociéte Française du Vide, 1997

Paris Société Française du Vide 1997

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Deste Autor:

  1. Maciel, H
  2. Mansano, R
  3. Verdonck, P
  4. Massi, M
  5. Otani, C

Neste Assunto:

  1. Science & Technology
  2. Technology
  3. Circuitos Integrados
  4. Plasma (Microeletrônica)
  5. Engineering

  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

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