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1
Electronic and excitonic properties of self-assembled semiconductor quantum rings
Electronic and excitonic properties of self-assembled semiconductor quantum rings
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Electronic and excitonic properties of self-assembled semiconductor quantum rings

FOMIN, V. M ; GLADILIN, V. N ; VAN GENUCHTEN, H. C. M ; BOZKURT, M ; KOENRAAD, P. M ; DEVREESE, J. T ; BLOKLAND, J. H ; CHRISTIANEN, P. C. M ; MAAN, J. C ; TABOADA, A. G ; GRANADOS, D ; GARCIA, J. M ; KLEEMANS, N. A. J. M

Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering, 2009, Vol.7364

Bellingham, Wash: SPIE

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2
Vortex dynamics in high-Tc superconducting films with arrays of antidots
Vortex dynamics in high-Tc superconducting films with arrays of antidots
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Vortex dynamics in high-Tc superconducting films with arrays of antidots

FOMIN, V. M ; WÖRDENWEBER, R

Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering, 2009, Vol.7364

Bellingham, Wash: SPIE

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3
Surface-induced magnetic anisotropy for impurity spins in granular AuFe films
Surface-induced magnetic anisotropy for impurity spins in granular AuFe films
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Surface-induced magnetic anisotropy for impurity spins in granular AuFe films

GLADILIN, V. N ; FOMIN, V. M ; DEVREESE, J. T

Physica. B, Condensed matter, 2001, Vol.294-95, p.302-306 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier

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4
Dominating Sets and Local Treewidth
Dominating Sets and Local Treewidth
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Dominating Sets and Local Treewidth

Fomin, Fedor V. ; Thilikos, Dimtirios M. Zwick, Uri ; Di Battista, Giuseppe

Algorithms - ESA 2003, 2003, p.221-229 [Periódico revisado por pares]

Berlin, Heidelberg: Springer Berlin Heidelberg

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5
The complexity of approximating the oriented diameter of chordal graphs: (Extended abstract)
The complexity of approximating the oriented diameter of chordal graphs: (Extended abstract)
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The complexity of approximating the oriented diameter of chordal graphs: (Extended abstract)

FOMIN, Fedor V ; MATAMALA, Martin ; RAPAPORT, Ivan

Lecture notes in computer science, 2002, p.211-222 [Periódico revisado por pares]

Berlin: Springer

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6
Model for a technological procedure of chemical profile etching
Model for a technological procedure of chemical profile etching
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Model for a technological procedure of chemical profile etching

Kravetsky, Myhailo Y ; Lyubchenko, Alexei V ; Fomin, A. V

SPIE proceedings series, 1999, Vol.3890, p.507-511

Bellingham WA: SPIE

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