skip to main content
Idioma:
Você quis dizer: sannikov p g?
Resultados 1 2 3 4 5 next page
Mostrar Somente
Result Number Material Type Add to My Shelf Action Record Details and Options
1
Deposition of microcrystalline silicon in electron-cyclotron resonance discharge (24GHz) plasma from silicon tetrafluoride precursor
Deposition of microcrystalline silicon in electron-cyclotron resonance discharge (24GHz) plasma from silicon tetrafluoride precursor
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Deposition of microcrystalline silicon in electron-cyclotron resonance discharge (24GHz) plasma from silicon tetrafluoride precursor

Mansfeld, D.А. ; Vodopyanov, А.V. ; Golubev, S.V. ; Sennikov, P.G. ; Mochalov, L.A. ; Andreev, B.А. ; Drozdov, Yu N. ; Drozdov, М.N. ; Shashkin, V.I. ; Bulkin, P. ; Roca i Cabarrocas, P.

Thin solid films, 2014-07, Vol.562, p.114-117 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

Texto completo disponível

Citações Citado por
2
Experimental investigations of silicon tetrafluoride decomposition in ECR discharge plasma
Experimental investigations of silicon tetrafluoride decomposition in ECR discharge plasma
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Experimental investigations of silicon tetrafluoride decomposition in ECR discharge plasma

Vodopyanov, A. V. ; Golubev, S. V. ; Mansfeld, D. A. ; Sennikov, P. G. ; Drozdov, Yu. N.

Review of scientific instruments, 2011-06, Vol.82 (6), p.063503-063503-7 [Periódico revisado por pares]

United States: American Institute of Physics

Texto completo disponível

Citações Citado por
3
Equilibrium Chemistry in BCl 3 – H 2 –Ar Plasma
Equilibrium Chemistry in BCl 3 – H 2 –Ar Plasma
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Equilibrium Chemistry in BCl 3 – H 2 –Ar Plasma

Gornushkin, I B ; Shabanov, S V ; Sennikov, P G

Plasma chemistry and plasma processing, 2019-07, Vol.39 (4), p.1087-1102 [Periódico revisado por pares]

New York: Springer Nature B.V

Texto completo disponível

Citações Citado por
4
Equilibrium calculations for plasmas of volatile halides of III, IV and VI group elements mixed with H2 and H2 + CX4 (X = H, Cl, F) relevant to PECVD of isotopic materials
Equilibrium calculations for plasmas of volatile halides of III, IV and VI group elements mixed with H2 and H2 + CX4 (X = H, Cl, F) relevant to PECVD of isotopic materials
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Equilibrium calculations for plasmas of volatile halides of III, IV and VI group elements mixed with H2 and H2 + CX4 (X = H, Cl, F) relevant to PECVD of isotopic materials

Gornushkin, I. B. ; Sennikov, P. G. ; Kornev, R. A. ; Polyakov, V. S.

Journal of radioanalytical and nuclear chemistry, 2020-10, Vol.326 (1), p.407-421 [Periódico revisado por pares]

Cham: Springer International Publishing

Texto completo disponível

Citações Citado por
5
Technical Note: VUV photodesorption rates from water ice in the 120–150 K temperature range – significance for Noctilucent Clouds
Technical Note: VUV photodesorption rates from water ice in the 120–150 K temperature range – significance for Noctilucent Clouds
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Technical Note: VUV photodesorption rates from water ice in the 120–150 K temperature range – significance for Noctilucent Clouds

Kulikov, M. Yu ; Feigin, A. M. ; Ignatov, S. K. ; Sennikov, P. G. ; Bluszcz, Th ; Schrems, O.

Atmospheric chemistry and physics, 2011-02, Vol.11 (4), p.1729-1734 [Periódico revisado por pares]

Katlenburg-Lindau: Copernicus GmbH

Texto completo disponível

Citações Citado por
6
Thermal conductivity of isotopically enriched silicon
Thermal conductivity of isotopically enriched silicon
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Thermal conductivity of isotopically enriched silicon

Ruf, T. ; Henn, R.W. ; Asen-Palmer, M. ; Gmelin, E. ; Cardona, M. ; Pohl, H.-J. ; Devyatych, G.G. ; Sennikov, P.G.

Solid state communications, 2000-01, Vol.115 (5), p.243-247 [Periódico revisado por pares]

Elsevier Ltd

Texto completo disponível

Citações Citado por
7
Preparation of Boron Carbide from BF3 and BCl3 in Hydrogen Plasma of Arc RF Discharge
Preparation of Boron Carbide from BF3 and BCl3 in Hydrogen Plasma of Arc RF Discharge
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Preparation of Boron Carbide from BF3 and BCl3 in Hydrogen Plasma of Arc RF Discharge

Sennikov, P. G. ; Kornev, R. A. ; Shishkin, A. I.

Plasma chemistry and plasma processing, 2017-07, Vol.37 (4), p.997-1008 [Periódico revisado por pares]

New York: Springer US

Texto completo disponível

Citações Citado por
8
Laser induced dielectric breakdown in reactive mixture SiF4 + H2
Laser induced dielectric breakdown in reactive mixture SiF4 + H2
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Laser induced dielectric breakdown in reactive mixture SiF4 + H2

Sennikov, P.G. ; Ermakov, A.A. ; Kornev, R.A. ; Gornushkin, I.B.

Spectrochimica acta. Part B: Atomic spectroscopy, 2021-05, Vol.179, p.106099, Article 106099 [Periódico revisado por pares]

Oxford: Elsevier B.V

Texto completo disponível

Citações Citado por
9
Hydrogen Reduction of MoF6 and Molybdenum Carbide Formation in RF Inductively Coupled Low-Pressure Discharge: Experiment and Equilibrium Thermodynamics Consideration
Hydrogen Reduction of MoF6 and Molybdenum Carbide Formation in RF Inductively Coupled Low-Pressure Discharge: Experiment and Equilibrium Thermodynamics Consideration
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Hydrogen Reduction of MoF6 and Molybdenum Carbide Formation in RF Inductively Coupled Low-Pressure Discharge: Experiment and Equilibrium Thermodynamics Consideration

Sennikov, P. G. ; Gornushkin, I. B. ; Kornev, R. A. ; Nazarov, V. V. ; Polyakov, V. S. ; Shkrunin, V. E.

Plasma chemistry and plasma processing, 2021-03, Vol.41 (2), p.673-690 [Periódico revisado por pares]

New York: Springer US

Texto completo disponível

Citações Citado por
10
Laser Induced Dielectric Breakdown for Chemical Vapor Deposition by Hydrogen Reduction of Volatile Boron Halides BCl3 and BF3
Laser Induced Dielectric Breakdown for Chemical Vapor Deposition by Hydrogen Reduction of Volatile Boron Halides BCl3 and BF3
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Laser Induced Dielectric Breakdown for Chemical Vapor Deposition by Hydrogen Reduction of Volatile Boron Halides BCl3 and BF3

Gornushkin, I. B. ; Sennikov, P. G. ; Kornev, R. A. ; Ermakov, A. A. ; Shkrunin, V. E.

Plasma chemistry and plasma processing, 2020-09, Vol.40 (5), p.1145-1162 [Periódico revisado por pares]

New York: Springer US

Texto completo disponível

Citações Citado por
Resultados 1 2 3 4 5 next page

Personalize Seus Resultados

  1. Editar

Refine Search Results

Expandir Meus Resultados

  1.   

Mostrar Somente

  1. Recursos Online (151)
  2. Revistas revisadas por pares (154)

Refinar Meus Resultados

Tipo de Recurso 

  1. Artigos  (175)
  2. Anais de Congresso  (6)
  3. Conjunto de Dados  (6)
  4. Mais opções open sub menu

Data de Publicação 

De até
Refinar
  1. Antes de1984  (16)
  2. 1984Até1995  (26)
  3. 1996Até2005  (38)
  4. 2006Até2016  (45)
  5. Após 2016  (64)
  6. Mais opções open sub menu

Idioma 

  1. Inglês  (171)
  2. Russo  (17)
  3. Japonês  (13)
  4. Ucraniano  (1)
  5. Mais opções open sub menu

  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

Buscando em bases de dados remotas. Favor aguardar.