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Simulacao numerica computacional de uma sonda magnetica
Simulacao numerica computacional de uma sonda magnetica
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Simulacao numerica computacional de uma sonda magnetica

R G Dutra H. S Maciel; Marcos Massi; J P Sudano; Congresso Brasileiro de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia (16. 1995 Brasilia)

Resumos Brasilia : Sbv/Unicamp/Unb, 1995

Brasília Sbv/Unicamp/Unb 1995

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2
Characteristic of silicon etching process in a RIE reactor modified to include a built-in radio frequency excitation coil. (em CD-Rom)
Characteristic of silicon etching process in a RIE reactor modified to include a built-in radio frequency excitation coil. (em CD-Rom)
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Characteristic of silicon etching process in a RIE reactor modified to include a built-in radio frequency excitation coil. (em CD-Rom)

Marcos Massi Ronaldo Domingues Mansano 1964-; Homero Santiago Maciel; Patrick Bernard Verdonck 1958-; Conference of the Brazilian Microelectronics Society (12. 1997 Caxambu)

Proceedings Itajubá : SBMICRO/EFEI, 1997

Itajubá SBMICRO/EFEI 1997

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3
Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering
Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering
Material Type:
Relatório Técnico 		Adicionar ao Meu Espaço

Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering

Marcos Massi Ronaldo Domingues Mansano 1964-; Homero Santiago Maciel; C Otani; Patrick Bernard Verdonck 1958-; L. N. B. M Nishioka

São Paulo EPUSP 1999

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4
Deposição e corrosão de filmes de carbono tipo diamante através de técnicas assistidas por plasma
Deposição e corrosão de filmes de carbono tipo diamante através de técnicas assistidas por plasma
Material Type:
Tese de Doutorado 		Adicionar ao Meu Espaço

Deposição e corrosão de filmes de carbono tipo diamante através de técnicas assistidas por plasma

Marcos Massi Homero Santiago Maciel; Patrick Bernard Verdonck 1958-

1999

Localização: EPBC - Esc. Politécnica-Bib Central    (FT-1318 ) e outros locais(Acessar)

5
Deposicao de carbono pirolitico, via processo de deposicao de vapor quimico assistido a plasma de metano , sobre substratos de carbono vitreo
Deposicao de carbono pirolitico, via processo de deposicao de vapor quimico assistido a plasma de metano , sobre substratos de carbono vitreo
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Deposicao de carbono pirolitico, via processo de deposicao de vapor quimico assistido a plasma de metano , sobre substratos de carbono vitreo

S Watari C Otani; M Resende; C Nogueira; Marcos Massi; M Lima; H. S Maciel; Congresso Brasileiro de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia (16. 1995 Brasilia)

Resumos Brasilia : Sbv/Unicamp/Unb, 1995

Brasília Sbv/Unicamp/Unb 1995

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6
Efeito de injecao de eletrons primarios
Efeito de injecao de eletrons primarios
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Efeito de injecao de eletrons primarios

Marcos Massi H. S Maciel; J P Sudano; Congresso Brasileiro de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia (13. 1992 Campinas); Encontro Latino-Americano sobre Plasmas Frios (1. 1992 Campinas)

Resumos Campinas : Unicamp, 1992

Campinas Unicamp 1992

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7
Influência da razão entre a dureza e o módulo de elasticidade (H/E) na aderência de revestimentos de TiN e TiC depositados sobre aço AISI H13
Influência da razão entre a dureza e o módulo de elasticidade (H/E) na aderência de revestimentos de TiN e TiC depositados sobre aço AISI H13
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Influência da razão entre a dureza e o módulo de elasticidade (H/E) na aderência de revestimentos de TiN e TiC depositados sobre aço AISI H13

Abel André Cândido Recco André Paulo Tschiptschin 1948-; I C Oliveira; Marcos Massi; Homero Santiago Maciel; Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciência dos Materiais (17. 2006 Foz de Iguaçu)

Anais. CBECIMAT 2006. São Paulo, IPEN, 2006

São Paulo Instituto de Pesquisas Energéticas e Nucleares - IPEN 2006

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8
Comparison between single and double Langmuir probe tecniques for analysis of inductively coupled plasmas
Comparison between single and double Langmuir probe tecniques for analysis of inductively coupled plasmas
Material Type:
Relatório Técnico 		Adicionar ao Meu Espaço

Comparison between single and double Langmuir probe tecniques for analysis of inductively coupled plasmas

Giuseppe Antonio Cirino Patrick Bernard Verdonck 1958-; Homero Santiago Maciel; R M Castro; Marcos Massi; M B Pisani; Ronaldo Domingues Mansano 1964-

São Paulo EPUSP 1998

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9
Levantamento de curva de paschen em plasmas formados por fontes dc utilizando-sediferentes configuracoes de eletrodos
Levantamento de curva de paschen em plasmas formados por fontes dc utilizando-sediferentes configuracoes de eletrodos
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Levantamento de curva de paschen em plasmas formados por fontes dc utilizando-sediferentes configuracoes de eletrodos

E. A Barros Marcos Massi; Homero Santiago Maciel; J P Sudano; Congresso Brasileiro de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia (13. 1992 Campinas); Encontro Latino-Americano sobre Plasmas Frios (1. 1992 Campinas)

Resumos Campinas : Unicamp, 1992

Campinas Unicamp 1992

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10
Influence of methane addition on the characteristics of magnetron sputtered hydrogenated carbon films
Influence of methane addition on the characteristics of magnetron sputtered hydrogenated carbon films
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Influence of methane addition on the characteristics of magnetron sputtered hydrogenated carbon films

Ronaldo Domingues Mansano 1964- Paula Maria Nogueira; Luís da Silva Zambom; Patrick Bernard Verdonck 1958-; Marcos Massi; Homero Santiago Maciel; International Conference on Microelectronics and Packaging (14. 1999 Campinas)

ICMP 99: technical digest São Paulo : SBMicro/IMAPS, 1999

São Paulo SBMicro/IMAPS 1999

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Deste Autor:

  1. Maciel, H
  2. Massi, M
  3. Mansano, R
  4. Verdonck, P
  5. Otani, C

Neste Assunto:

  1. Filmes Finos
  2. Plasma (Microeletrônica)
  3. Semicondutores
  4. Plasma
  5. Filmes

  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

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