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Refinado por: assunto: Exact Sciences And Technology remover Nome da Publicação: Applied Surface Science remover
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Various structural changes in SiO2 introduced by one-photon excitation with undulator and two-photon excitation with excimer laser
Various structural changes in SiO2 introduced by one-photon excitation with undulator and two-photon excitation with excimer laser
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Various structural changes in SiO2 introduced by one-photon excitation with undulator and two-photon excitation with excimer laser

Awazu, Koichi

Applied surface science, 2000-12, Vol.168 (1-4), p.92-95 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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2
Vacuum ultraviolet photolysis of supersonic free jets of SiH4
Vacuum ultraviolet photolysis of supersonic free jets of SiH4
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Vacuum ultraviolet photolysis of supersonic free jets of SiH4

FONS, P ; MOTOOKA, T ; AWAZU, K ; ONUKI, H

Applied surface science, 1994-05, Vol.79-80 (1-4), p.476-480 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier Science

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3
Undulator radiation source NIJI-II for photo-excited processes
Undulator radiation source NIJI-II for photo-excited processes
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Undulator radiation source NIJI-II for photo-excited processes

Nakaishi, H. ; Kanie, T. ; Takada, H. ; Awazu, K. ; Yamada, T. ; Onuki, H.

Applied surface science, 1994-05, Vol.79 (1-4), p.491-494 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

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