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11
RF electrical measurements in plasma processing reactors
RF electrical measurements in plasma processing reactors
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

RF electrical measurements in plasma processing reactors

Marcelo B. Pisani Patrick Bernard Verdonck 1958-; International Conference on Microelectronics and Packaging (15. 2000 Manaus)

SBMicro 2000: proceedings Manaus : SBMicro/UA/UFGRS/UNICAMP/USP, 2000

Manaus SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP 2000

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12
Determination of the ion density and electron temperature using a planar electrostatic probe
Determination of the ion density and electron temperature using a planar electrostatic probe
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Determination of the ion density and electron temperature using a planar electrostatic probe

Laura Swart Patrick Bernard Verdonck 1958-; International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO (20. 2005 Florianópolis)

Claeys, C.; Swart, J. W.; Morimoto, N. I.; Verdonck, P., eds. Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2005 Pennington : The Electrochemical Society, 2005. Proceedings v. 2005-08

Pennington The Electrochemical Society 2005

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13
Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures
Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures

Patrick Bernard Verdonck 1958- Ronaldo Domingues Mansano 1964-; Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica (9. 1994 Rio de Janeiro)

Anais Rio de Janeiro : Sbmicro/Ufrj, 1994

Rio de Janeiro Sbmicro/Ufrj 1994

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14
Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2
Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2

Ronaldo Domingues Mansano 1964- Patrick Bernard Verdonck 1958-; Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica (9. 1994 Rio de Janeiro)

Anais Rio de Janeiro : Sbmicro/Ufrj, 1994

Rio de Janeiro Sbmicro/Ufrj 1994

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15
Influência do material de eletrodo nas características de processo de corrosão por plasma
Influência do material de eletrodo nas características de processo de corrosão por plasma
Material Type:
Dissertação de Mestrado 		Adicionar ao Meu Espaço

Influência do material de eletrodo nas características de processo de corrosão por plasma

Ronaldo Ruas Patrick Bernard Verdonck 1958-

2001

Localização: EPBC - Esc. Politécnica-Bib Central    (FD-2801 ) e outros locais(Acessar)

16
Mecanismos induzidos pelo material de eletrodo nos processos de corrosão por plasma
Mecanismos induzidos pelo material de eletrodo nos processos de corrosão por plasma
Material Type:
Tese de Doutorado 		Adicionar ao Meu Espaço

Mecanismos induzidos pelo material de eletrodo nos processos de corrosão por plasma

Ronaldo Ruas Patrick Bernard Verdonck 1958-

2006

Localização: EPBC - Esc. Politécnica-Bib Central    (FT-2233 ) e outros locais(Acessar)

17
Estudo da impedancia do plasma num processo de corrosao
Estudo da impedancia do plasma num processo de corrosao
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Estudo da impedancia do plasma num processo de corrosao

Giuseppe Antonio Cirino Patrick Bernard Verdonck 1958-; Simpósio de Iniciação Científica da Universidade de São Paulo (3. 1995 São Carlos)

São Paulo : USP, 1995 Resumos

São Paulo Usp 1995

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18
Complex-amplitude modulation diffractive optical element performed by aperture variations on a reflective aluminium layer deposited over a variable thickness SiC2 substrate
Complex-amplitude modulation diffractive optical element performed by aperture variations on a reflective aluminium layer deposited over a variable thickness SiC2 substrate
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Complex-amplitude modulation diffractive optical element performed by aperture variations on a reflective aluminium layer deposited over a variable thickness SiC2 substrate

P S P Cardona Giuseppe Antonio Cirino; Ronaldo Domingues Mansano 1964-; Patrick Bernard Verdonck 1958-; Diffractive Optics and Micro-Optics Conference (2000 Quebec)

technical digest Quebec : Optical Society of America, 2000

Quebec Optical Society of America 2000

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19
Reactive ion etching of 'GA''AS' in cc14-n2 plasmas
Reactive ion etching of 'GA''AS' in cc14-n2 plasmas
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Reactive ion etching of 'GA''AS' in cc14-n2 plasmas

Patrick Bernard Verdonck 1958- Jacobus Willibrordus Swart 1950-; Ronaldo Domingues Mansano 1964-; N Ordonez; Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica (9. 1994 Rio de Janeiro)

Anais Rio de Janeiro : Sbmicro/Ufrj, 1994

Rio de Janeiro Sbmicro/Ufrj 1994

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20
Characteristic of silicon etching process in a RIE reactor modified to include a built-in radio frequency excitation coil. (em CD-Rom)
Characteristic of silicon etching process in a RIE reactor modified to include a built-in radio frequency excitation coil. (em CD-Rom)
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Characteristic of silicon etching process in a RIE reactor modified to include a built-in radio frequency excitation coil. (em CD-Rom)

Marcos Massi Ronaldo Domingues Mansano 1964-; Homero Santiago Maciel; Patrick Bernard Verdonck 1958-; Conference of the Brazilian Microelectronics Society (12. 1997 Caxambu)

Proceedings Itajubá : SBMICRO/EFEI, 1997

Itajubá SBMICRO/EFEI 1997

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Deste Autor:

  1. Verdonck, P
  2. Mansano, R
  3. Cirino, G
  4. Maciel, H
  5. Gonçalves Neto, L

Neste Assunto:

  1. Circuitos Integrados
  2. Microeletrônica
  3. Filmes Finos
  4. Semicondutores
  5. Óptica

  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

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