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High performance resist for EUV lithography
High performance resist for EUV lithography
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

High performance resist for EUV lithography

Gonsalves, K.E. ; Thiyagarajan, M. ; Choi, J.H. ; Zimmerman, Paul ; Cerrina, F. ; Nealey, P. ; Golovkina, V. ; Wallace, J. ; Batina, Nikola

Microelectronic engineering, 2005, Vol.77 (1), p.27-35 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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Micro/nano machining of polymeric substrates by ion beam techniques
Micro/nano machining of polymeric substrates by ion beam techniques
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Micro/nano machining of polymeric substrates by ion beam techniques

He, W ; Poker, D.B ; Gonsalves, K.E ; Batina, N

Microelectronic Engineering, 2003-01, Vol.65 (1), p.153-161 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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Nanocomposite resist systems for next generation lithography
Nanocomposite resist systems for next generation lithography
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Nanocomposite resist systems for next generation lithography

Merhari, L ; Gonsalves, K.E ; Hu, Y ; He, W ; Huang, W.-S ; Angelopoulos, M ; Bruenger, W.H ; Dzionk, C ; Torkler, M

Microelectronic engineering, 2002-09, Vol.63 (4), p.391-403 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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4
High sensitivity nanocomposite resists for EUV lithography
High sensitivity nanocomposite resists for EUV lithography
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

High sensitivity nanocomposite resists for EUV lithography

Azam Ali, M ; Gonsalves, K.E ; Golovkina, V ; Cerrina, F

Microelectronic engineering, 2003-05, Vol.65 (4), p.454-462 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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Chapter 1 - Chemical synthesis of nanostructured metals, metal alloys, and semiconductors
Chapter 1 - Chemical synthesis of nanostructured metals, metal alloys, and semiconductors
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Capítulo de Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

Chapter 1 - Chemical synthesis of nanostructured metals, metal alloys, and semiconductors

Gonsalves, K.E. ; Rangarajan, S.P. ; Wang, J.

Nanostructured Materials and Nanotechnology, 2002, p.1-56

Elsevier Inc

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6
Nanocomposite resist systems for next-generation lithography
Nanocomposite resist systems for next-generation lithography
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Nanocomposite resist systems for next-generation lithography

Merhari, L ; Gonsalves, K.E ; Hu, Y ; He, W ; Huang, W.S ; Angelopoulos, M ; Bruenger, W.H ; Dzionk, C ; Torkler, M

2002

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Undulator-Based Laser Wakefield Accelerator Electron Beam Energy Spread and Emittance Diagnostic
Undulator-Based Laser Wakefield Accelerator Electron Beam Energy Spread and Emittance Diagnostic
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Undulator-Based Laser Wakefield Accelerator Electron Beam Energy Spread and Emittance Diagnostic

Bakeman, M.S. ; Van Tilborg, J. ; Nakamura, K. ; Gonsalves, A. ; Osterhoff, J. ; Sokollik, T. ; Lin, C. ; Robinson, K.E. ; Schroeder, C.B. ; Toth, Cs ; Weingartner, R. ; Gruner, F. ; Esarey, E. ; Leemans, W.P.

United States 2010

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