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Refinado por: Nome da Publicação: Applied Surface Science remover
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1
XPS study of oxidation processes of CeOx defective layers
XPS study of oxidation processes of CeOx defective layers
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

XPS study of oxidation processes of CeOx defective layers

Holgado, J.P ; Munuera, G ; Espinós, J.P ; González-Elipe, A.R

Applied surface science, 2000-05, Vol.158 (1-2), p.164-171 [Periódico revisado por pares]

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2
Structural characteristics and morphology of Sm x Ce 1− x O 2− x/2 thin films
Structural characteristics and morphology of Sm x Ce 1− x O 2− x/2 thin films
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Structural characteristics and morphology of Sm x Ce 1− x O 2− x/2 thin films

Hartmanová, M. ; Jergel, M. ; Mansilla, C. ; Holgado, J.P. ; Zemek, J. ; Jurek, K. ; Kundracik, F.

Applied surface science, 2009-08, Vol.255 (22), p.9085-9091 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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3
Structural characteristics and morphology of Sm(x)Ce(1(-(x)O(2(-(x(/(2) thin films
Structural characteristics and morphology of Sm(x)Ce(1(-(x)O(2(-(x(/(2) thin films
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Structural characteristics and morphology of Sm(x)Ce(1(-(x)O(2(-(x(/(2) thin films

Hartmanova, M ; Jergel, M ; Mansilla, C ; Holgado, J P ; Zemek, J ; Jurek, K ; Kundracik, F

Applied surface science, 2009-08, Vol.255 (22), p.9085-9091 [Periódico revisado por pares]

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4
Study of CeO 2 XPS spectra by factor analysis: reduction of CeO 2
Study of CeO 2 XPS spectra by factor analysis: reduction of CeO 2
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Study of CeO 2 XPS spectra by factor analysis: reduction of CeO 2

Holgado, Juan P ; Alvarez, Rafael ; Munuera, Guillermo

Applied surface science, 2000, Vol.161 (3), p.301-315 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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5
XPS study of oxidation processes of CeO x defective layers
XPS study of oxidation processes of CeO x defective layers
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

XPS study of oxidation processes of CeO x defective layers

Holgado, J.P ; Munuera, G ; Espinós, J.P ; González-Elipe, A.R

Applied surface science, 2000, Vol.158 (1), p.164-171 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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6
An XPS study of the Ar+-induced reduction of Ni2+ in NiO and Ni-Si oxide systems
An XPS study of the Ar+-induced reduction of Ni2+ in NiO and Ni-Si oxide systems
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An XPS study of the Ar+-induced reduction of Ni2+ in NiO and Ni-Si oxide systems

GONZALEZ-ELIPE, A. R ; ALVAREZ, R ; HOLGADO, J. P ; ESPINOS, J. P ; MUNUERA, G ; SANZ, J. M

Applied surface science, 1991-07, Vol.51 (1-2), p.19-26 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier Science

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7
An XPS study of the Ar +-induced reduction of Ni 2+ in NiO and Ni-Si oxide systems
An XPS study of the Ar +-induced reduction of Ni 2+ in NiO and Ni-Si oxide systems
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

An XPS study of the Ar +-induced reduction of Ni 2+ in NiO and Ni-Si oxide systems

González-Elipe, A.R. ; Alvarez, R. ; Holgado, J.P. ; Espinos, J.P. ; Munuera, G. ; Sanz, J.M.

Applied surface science, 1991, Vol.51 (1), p.19-26 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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8
Structural characteristics and morphology of SmxCe1-xO2-x/2 thin films
Structural characteristics and morphology of SmxCe1-xO2-x/2 thin films
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Structural characteristics and morphology of SmxCe1-xO2-x/2 thin films

HARTMANOVA, M ; JERGEL, M ; MANSILLA, C ; HOLGADO, J. P ; ZEMEK, J ; JUREK, K ; KUNDRACIK, F

Applied surface science, 2009-08, Vol.255 (22), p.9085-9091 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier

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9
Cost-effective SU-8 micro-structures by DUV excimer laser lithography for label-free biosensing
Cost-effective SU-8 micro-structures by DUV excimer laser lithography for label-free biosensing
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Cost-effective SU-8 micro-structures by DUV excimer laser lithography for label-free biosensing

Sanza, F.J. ; Laguna, M.F. ; Casquel, R. ; Holgado, M. ; Barrios, C.A. ; Ortega, F.J. ; López-Romero, D. ; García-Ballesteros, J.J. ; Bañuls, M.J. ; Maquieira, A. ; Puchades, R.

Applied surface science, 2011-04, Vol.257 (12), p.5403-5407 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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10
UV laser-induced high resolution cleaving of Si wafers for micro–nano devices and polymeric waveguide characterization
UV laser-induced high resolution cleaving of Si wafers for micro–nano devices and polymeric waveguide characterization
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

UV laser-induced high resolution cleaving of Si wafers for micro–nano devices and polymeric waveguide characterization

Casquel, R. ; Holgado, M. ; García-Ballesteros, J.J. ; Zinoviev, K. ; Férnandez-Sánchez, C. ; Sanza, F.J. ; Molpeceres, C. ; Laguna, M.F. ; Llobera, A. ; Ocaña, J.L. ; Domínguez, C.

Applied surface science, 2011-04, Vol.257 (12), p.5424-5428 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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