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Chemical and morphological properties of amorphous silicon oxynitride films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition
Chemical and morphological properties of amorphous silicon oxynitride films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition
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Chemical and morphological properties of amorphous silicon oxynitride films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Wanderla Luis Scopel R R Cuzinatto; Manfredo Harri Tabacniks; Márcia Carvalho de Abreu Fantini; Marco Isaías Alayo Chávez 1971-; Inés Pereyra 1947-

Journal of Non-Crystalline Solids Amsterdam v. 288, n. 1-3, p. 88-95, 2001

Amsterdam 2001

Acesso online

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Chemical and morphological properties of amorphous silicon oxynitride films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition
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Wanderla Luis Scopel R R Cuzinatto; Manfredo Harri Tabacniks; Márcia Carvalho de Abreu Fantini; Marco Isaías Alayo Chávez 1971-; Inés Pereyra 1947-

Journal of Non-Crystalline Solids Amsterdam v. 288, n. 1-3, p. 88-95, 2001

Amsterdam 2001

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Propriedades químicas, morfológicas e estruturais de filmes finos amorfos hidrogenados de oxinitreto de silício
Propriedades químicas, morfológicas e estruturais de filmes finos amorfos hidrogenados de oxinitreto de silício
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Propriedades químicas, morfológicas e estruturais de filmes finos amorfos hidrogenados de oxinitreto de silício

Wanderla Luis Scopel R R Cuzinatto; Manfredo Harri Tabacniks; Márcia Carvalho de Abreu Fantini; Marco Isaías Alayo Chávez 1971-; I Pereira; Reunião da Sociedade Brasileira de Cristalografia (15. 2000 Campinas)

Resumos Campinas : LNLS, 2000

Campinas LNLS 2000

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Deste Autor:

  1. Cuzinatto, R
  2. Tabacniks, M
  3. Fantini, M
  4. Scopel, W
  5. Alayo Chávez, M

Neste Assunto:

  1. Matéria Condensada (Propriedades Mecânicas)
  2. Materiais
  3. Semicondutores
  4. Cristalografia

  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

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