skip to main content

Magnetron sputter epitaxy of wurtzite Al 1 − x In x N ( 0.1 < x < 0.9 ) by dual reactive dc magnetron sputter deposition

Seppänen, T. ; Persson, P. O. Å. ; Hultman, L. ; Birch, J. ; Radnóczi, G. Z.

Journal of Applied Physics, 15 April 2005, Vol.97(8) [Periódico revisado por pares]

Texto completo disponível

Citações Citado por

Buscando em bases de dados remotas. Favor aguardar.