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XeCl laser ablative deposition and characterization of yttria‐stabilized zirconia thin films on glass and CeO 2 ‐Sm 2 O 3

Kokai, F. ; Amano, K. ; Ota, H. ; Ochiai, Y. ; Umemura, F.

Journal of Applied Physics, 15 July 1992, Vol.72(2), pp.699-704 [Periódico revisado por pares]

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