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High-k gate dielectrics
Michel Houssa
Bristol Institute of Physics c2004
Localização:
IFSC - Inst. Física de São Carlos
(621.38152 H842h )
(Acessar)
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Título:
High-k gate dielectrics
Autor:
Michel Houssa
Assuntos:
Dielectric devices
;
SEMICONDUTORES
;
DIELÉTRICOS
;
ENGENHARIA ELÉTRICA
Notas:
Includes bibliographical references and index
Títulos relacionados:
Série:Series in materials science and engineering
Editor:
Bristol Institute of Physics
Data de criação/publicação:
c2004
Formato:
xi, 601 p. ill. 24 cm.
Idioma:
Inglês
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