Idioma:

Simulation of anisotropic etching of silicon using a cellular automata model

Jose Pinto de Oliveira Junior Marcelo Nelson Paez Carreño 1962-; International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO (2008 Gramado, RS)

SBMICRO 2008: Anais Pennington: The Electrochemical Society, 2008

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Título:
Simulation of anisotropic etching of silicon using a cellular automata model
Autor: Jose Pinto de Oliveira Junior
Marcelo Nelson Paez Carreño 1962-; International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO (2008 Gramado, RS)
Assuntos: MICROELETRÔNICA
É parte de: SBMICRO 2008: Anais Pennington: The Electrochemical Society, 2008
Títulos relacionados: Série:ECS Transactions v. 14, n. 1
Editor: Pennington The Electrochemical Society
Data de criação/publicação: 2008
Formato: p. 37-46.
Idioma: Inglês

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