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Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas
Ronaldo Domingues Mansano 1964- Patrick Bernard Verdonck 1958-; Homero Santiago Maciel
São Paulo EPUSP 1998
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Título:
Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas
Autor:
Ronaldo Domingues Mansano 1964-
Patrick Bernard Verdonck 1958-
;
Homero Santiago Maciel
Assuntos:
CIRCUITOS INTEGRADOS
Títulos relacionados:
Série:Boletim Técnico da Escola Politécnica da USP. Departamento de Engenharia Eletrônica, BT/PEE/9812
Editor:
São Paulo EPUSP
Data de criação/publicação:
1998
Formato:
4p.
Idioma:
Inglês
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