skip to main content
Visitante
Meu Espaço
Minha Conta
Sair
Identificação
This feature requires javascript
Tags
Revistas Eletrônicas (eJournals)
Livros Eletrônicos (eBooks)
Bases de Dados
Bibliotecas USP
Ajuda
Ajuda
Idioma:
Inglês
Espanhol
Português
This feature required javascript
This feature requires javascript
Primo Search
Busca Geral
Busca Geral
Acervo Físico
Acervo Físico
Produção Intelectual da USP
Produção USP
Search For:
Clear Search Box
Search in:
Busca Geral
Or select another collection:
Search in:
Busca Geral
Busca Avançada
Busca por Índices
This feature requires javascript
This feature requires javascript
Light Output Enhancement of Near UV-LED by Using Ti-Doped ITO Transparent Conducting Layer
Yung Hsun Lin ; Liu, Y S ; Liu, C Y
IEEE photonics technology letters, 2010-10, Vol.22 (19), p.1443-1445
New York: IEEE
Texto completo disponível
Citações
Citado por
Exibir Online
Detalhes
Resenhas & Tags
Mais Opções
Nº de Citações
This feature requires javascript
Enviar para
Adicionar ao Meu Espaço
Remover do Meu Espaço
E-mail (máximo 30 registros por vez)
Imprimir
Link permanente
Referência
EasyBib
EndNote
RefWorks
del.icio.us
Exportar RIS
Exportar BibTeX
This feature requires javascript
Título:
Light Output Enhancement of Near UV-LED by Using Ti-Doped ITO Transparent Conducting Layer
Autor:
Yung Hsun Lin
;
Liu, Y S
;
Liu, C Y
Assuntos:
Annealing
;
Conducting materials
;
Conductivity
;
Conferences
;
Contact resistance
;
Doping
;
Indium tin oxide
;
indium-tin-oxide (ITO)
;
Light emitting diodes
;
light-emitting diodes (LEDs)
;
Optical fibers
;
Power generation
;
Sputtering
;
Substrates
;
Thin films
;
Titanium
;
Transistors
;
Transmittance
;
ultraviolet (UV) sources
É parte de:
IEEE photonics technology letters, 2010-10, Vol.22 (19), p.1443-1445
Notas:
ObjectType-Article-2
SourceType-Scholarly Journals-1
ObjectType-Conference-1
ObjectType-Feature-3
content type line 23
SourceType-Conference Papers & Proceedings-2
Descrição:
With Ti doping, the transmittance of indium-tin-oxide (ITO) thin film is greatly enhanced in near the ultraviolet (UV) range. After annealing at 500 °C in vacuum, the transmittance of Ti-doped ITO (Ti : ITO) thin film at 380 nm is larger than that of pure ITO thin film by 22%. And, the resistivity of annealed Ti : ITO thin film is equivalent with that of ITO thin film (4.248×10 -4 Ω·cm). Using Ti : ITO as TCL, the light output power of UV light-emitting diode (LED) is enhanced by 52.1%, compared to UV-LED (380 nm) with an ITO transparent conducting layer.
Editor:
New York: IEEE
Idioma:
Inglês
This feature requires javascript
This feature requires javascript
Voltar para lista de resultados
This feature requires javascript
This feature requires javascript
Buscando em bases de dados remotas. Favor aguardar.
Buscando por
em
scope:(USP_PRODUCAO),scope:(USP_EBOOKS),scope:("PRIMO"),scope:(USP),scope:(USP_EREVISTAS),scope:(USP_FISICO),primo_central_multiple_fe
Mostrar o que foi encontrado até o momento
This feature requires javascript
This feature requires javascript