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Aluminum implantation in Kapton for space applications magnetic field effects on implantation in vacuum arcs

Ing Hwie Tan Mário Ueda; Renato Sergio Dallaqua; José Osvaldo Rossi; Antonio Fernando Beloto; Nicole Raymonde Demarquette 1966-; Leon Gengembre

Japanese Journal of Applied Physics v.44, n. 7A, p. 5211-5215, 2005

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Título:
Aluminum implantation in Kapton for space applications magnetic field effects on implantation in vacuum arcs
Autor: Ing Hwie Tan
Mário Ueda; Renato Sergio Dallaqua; José Osvaldo Rossi; Antonio Fernando Beloto; Nicole Raymonde Demarquette 1966-; Leon Gengembre
Assuntos: PLASMA; POLÍMEROS (MATERIAIS); VÁCUO; OXIDAÇÃO
É parte de: Japanese Journal of Applied Physics v.44, n. 7A, p. 5211-5215, 2005
Editor: Tokyo,JP
Data de criação/publicação: 2005
Formato: p. 5211-5215.
Idioma: Inglês

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