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Plasmas fluorados com acoplamento indutivo.
Rodrigues, Bruno Da Silva
Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP; Universidade de São Paulo; Escola Politécnica 2006-02-06
Acesso online. A biblioteca também possui exemplares impressos.
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Título:
Plasmas fluorados com acoplamento indutivo.
Autor:
Rodrigues, Bruno Da Silva
Orientador:
Verdonck, Patrick Bernard
Assuntos:
Espectrometria De Emissão
;
Icp
;
Plasma
;
Oes
Notas:
Dissertação (Mestrado)
Notas Locais:
Microeletrônica
Descrição:
Este trabalho de mestrado tem o intuito de caracterizar plasmas do tipo indutivo (ICP). Para a caracterização do plasma, foram usadas técnicas de espectroscopia e medidas elétricas. Foram analisados plasmas de Argônio, por ser um gás inerte, oxigênio, por ser um pouco eletronegativo, SF6, por ser um gás muito eletronegativo e útil para a corrosão de silício, misturas de oxigênio e SF6 com Ar, CF4 e misturas de CF4 com Ar. Observou-se que obtêm-se plasmas indutivamente acoplados quando se cria uma condição de concentração mínima de elétrons livres no plasma. Isso acontece quando há uma certa potência aplicada no eletrodo e outra potência aplicada na bobina. Quanto menos eletronegativo o gás, menores são estas potências. Nos casos estudados significa que é mais fácil obter acoplamento indutivo com Ar puro, depois com as misturas dos gases. Em nosso reator foi mais difícil conseguir obter plasmas indutivamente acoplados com O2 e SF6 puros, pois não tivemos condições de hardware" para aplicar as potências altas as suficientes para criar o plasma indutivo. Também estudamos dois materiais como material de eletrodo, estanho e alumínio e observamos que para o SF6 há uma maior concentração de F com eletrodo de Sn enquanto para CF4 a concentração de F e maior com eletrodo de Al.
DOI:
10.11606/D.3.2006.tde-26052006-114707
Editor:
Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP; Universidade de São Paulo; Escola Politécnica
Data de criação/publicação:
2006-02-06
Formato:
Adobe PDF
Idioma:
Português
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