Soft lithography in triblock copolymer nanostructures
Rafael H. Longaresi Antonio J. F Carvalho; Marcelo de Assumpção Pereira da Silva; Roberto Mendonça Faria; International Symposium on Advanced Materials and Nanostructures - ISAMN (2. 2007 São Carlos)
Book of Abstracts São Carlos : Instituto de Física de São Carlos - IFSC/USP, 2007São Carlos Instituto de Física de São Carlos - IFSC/USP 2007
Localização: IFSC - Inst. Física de São Carlos (PROD013326 ) e outros locais(Acessar)
- 0
- 1
- 2
- 3
- 4
- 5
- 6
- 7
- 8
- 9
- 10
- 11
- 12
- 13
- 14
- 15
- 16
- 17
- 18
- 19
- 20
- 21
- 22
- 23
- 24
- 25
- 26
- 27
- 28
- 29
- 30
- 31
- 32
- 33
- 34
- 35
- 36
- 37
- 38
- 39
prod013346
prod013289
browse_callnumber
display.do?gathStatTab=true&dscnt=0&callNumberBrowseField=browse_callnumber&tabRealType=browseshelf&mode=Advanced&vid=USP&rfnGrp=1&tab=usp_producao&dstmp=1716575576880&rfnGrpCounter=1&fctV=Silva%2C+M&callNumber=prod013326&fctN=facet_creator&vl(freeText0)=Carvalho%2C%20A&ct=display&fn=search&indx=38&recIdxs=0&elementId=0
Página Inicial
RSS
Feed
Políticas
Fale Conosco-
Realização:
Logos de Redes Sociais: 